ULPMAT

Óxido de estaño (II)

Chemical Name:
Óxido de estaño (II)
Formula:
SnO
Product No.:
500800
CAS No.:
21651-19-4
EINECS No.:
244-499-5
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
500800ST001 SnO 99.99% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
500800ST002 SnO 99.99% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
500800ST003 SnO 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
500800ST004 SnO 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
500800ST005 SnO 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
500800ST006 SnO 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
500800ST001
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
500800ST002
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
500800ST003
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
500800ST004
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
500800ST005
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
500800ST006
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm

Cátodos para sputtering de óxido de estaño(II) Descripción general

Los cátodos para sputtering son materiales de alto rendimiento diseñados para procesos avanzados de deposición de películas finas. Se utilizan ampliamente en dispositivos electrónicos transparentes, sensores de gas, baterías de litio y películas finas funcionales. Estos materiales ofrecen una excelente conductividad, una baja concentración de portadores y una excelente uniformidad de la película, satisfaciendo las demandas de una amplia gama de tecnologías de vanguardia.

Ofrecemos cátodos para sputtering de óxido de estaño (II) de diversas formas y tamaños, como redondos, rectangulares y anulares, que pueden personalizarse para satisfacer los requisitos específicos de su aplicación. También ofrecemos un completo servicio postventa para ayudar a los clientes a conseguir una producción en masa estable.

Características del producto

Pureza: 99,99
El bajo contenido de impurezas garantiza un rendimiento estable de la película
Estructura densa, excelente velocidad de sputtering y uniformidad de la película
Tamaño, grosor y método de montaje personalizables
Adecuado para la preparación de películas conductoras transparentes y sensores de gas

Aplicaciones del cátodo para sputtering de óxido de estaño (II)

Dispositivos electrónicos transparentes: Utilizado como material de película conductora transparente de tipo p en pantallas TFT y dispositivos orgánicos emisores de luz (OLED).
Sensores de gas: Se utiliza para la preparación de sensores de gas basados en SnO altamente sensibles para la detección de gases como el CO y el NO₂. Dispositivos electroquímicos: Utilizado como recubrimiento de materiales anódicos en baterías de iones de litio para mejorar la estabilidad de los ciclos.
Optoelectrónica y funcionales: Utilizadas en aplicaciones especializadas como filtros infrarrojos y vidrios de baja emisividad.

Informes

Proporcionamos un Certificado de análisis (COA)hoja de datos de seguridad del material (MSDS) y otros informes relevantes con cada envío. También realizamos pruebas a terceros para mejorar la garantía de calidad.

Fórmula molecular: SnO
Peso molecular: 134,71 g/mol
Aspecto: Blanco cerámico blanquecino o amarillo claro de superficie lisa
Densidad: Aproximadamente 6,45 g/cm³ (alta densidad, adecuado para recubrimiento al vacío)
Punto de fusión: Aproximadamente 1.080°C
Estructura cristalina: Tetragonal (estructura tipo sulfuro de estaño)

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y encajonadas para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

SKU 500800ST Categoría Marca:

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