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Óxido de bismuto y germanio (BGO)

Chemical Name:
Óxido de bismuto y germanio (BGO)
Formula:
Bi4Ge3O12
Product No.:
83320800
CAS No.:
12233-56-6
EINECS No.:
235-457-7
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
83320800ST001 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
83320800ST002 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
83320800ST003 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
83320800ST004 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
83320800ST001
Formula
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
83320800ST002
Formula
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
83320800ST003
Formula
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
83320800ST004
Formula
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm

Visión general de los cátodos para sputtering de óxido de bismuto y germanio

Óxido de bismuto y germanio son materiales de alto rendimiento diseñados para procesos de deposición de películas finas ferroeléctricas, optoelectrónicas y funcionales. El material es estructuralmente estable, químicamente uniforme y tiene una densidad y pureza excelentes, lo que garantiza una composición de película consistente, una fuerte adherencia y una alta calidad de película.

Ofrecemos cátodos para sputtering de óxido de bismuto y germanio en varias formas y tamaños, incluyendo redondos y rectangulares, y pueden personalizarse según sus requisitos específicos. También ofrecemos un completo servicio postventa. Si tiene alguna pregunta sobre el uso, no dude en ponerse en contacto con nosotros.

Características del producto

Pureza: 99,99
Estructura cerámica de alta densidad para una deposición estable
Personalizable tamaño y forma
Servicio de fijación de objetivos disponible
Excelente uniformidad y adherencia de la película
Aplicable a una gran variedad de campos de preparación de películas finas funcionales

Aplicaciones del cátodo para sputtering de óxido de bismuto y germanio

Memoria ferroeléctrica: El Bi₄Ti₃O₁₂ es un material ferroeléctrico clásico que puede utilizarse para la deposición de capas ferroeléctricas en memorias no volátiles (FeRAM).
Dispositivos optoelectrónicos: Se utiliza para preparar películas de óxido multifuncionales con características fotorresponsivas para conversión fotoeléctrica y sensores.
Materiales piezoeléctricos y dieléctricos: pueden utilizarse como materiales de capas funcionales en condensadores cerámicos y componentes de chips multicapa, con buenas propiedades dieléctricas.
Películas para dispositivos integrados: películas funcionales utilizadas en circuitos integrados, como condensadores ferroeléctricos autopolarizados.

Informes

Para cada lote de cátodos para sputtering de óxido de bismuto y germanio, proporcionamos un certificado de análisis (COA) completo, una hoja de datos de seguridad del material (MSDS) e informes de pruebas de componentes relevantes. También podemos proporcionar informes de pruebas de terceros a petición del cliente para aumentar la confianza en la calidad del material.

Fórmula molecular: Bi₄Ge₃O₁₂
Peso molecular: 1.017,8 g/mol
Aspecto: Blanco hueso o amarillo claro de cerámica con una superficie plana y densa
Densidad: Aproximadamente 7,1 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: Aproximadamente 930 °C (relativamente bajo, adecuado para aplicaciones sensibles al calor)
Estructura cristalina: sistema cúbico (estructura centrada en el cuerpo, buena isotropía)

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

SKU 83320800ST Categoría Marca:

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