Los cátodos para sputtering son materiales de alto rendimiento diseñados para procesos de deposición de películas finas de alta gama, adecuados para aplicaciones que requieren una estabilidad y resistencia a la corrosión extremadamente altas. Su elevada pureza y estructura densa le permiten presentar una excelente uniformidad y adherencia de la película en el recubrimiento al vacío.
Ofrecemos cátodos metálicos de osmio para sputtering en una gran variedad de formas y tamaños, incluyendo redondos, rectangulares y especificaciones personalizadas. Si tiene alguna pregunta durante la selección o el uso, nuestro equipo de profesionales le proporcionará asistencia técnica completa y servicio postventa.
Pureza: 99,95%
Alta densidad, baja porosidad, que garantiza una deposición de película densa y uniforme
Disponible en diversos tamaños y formas
Adecuado para aplicaciones de gama alta como aeroespacial, microelectrónica, revestimientos ópticos, etc.
Semiconductores y microelectrónica: Se utiliza para construir electrodos resistentes a la corrosión o capas de blindaje, adecuadas para dispositivos microelectrónicos en entornos extremos.
Recubrimienobleas ópticas: Se utiliza para producir películas ópticas con un alto índice de refracción o propiedades reflectantes especiales.
Aeroespacial: Se utiliza como material de revestimiento protector o funcional en componentes aeroespaciales para mejorar la estabilidad térmica y la durabilidad del dispositivo.
Aleaciones especiales o estructuras de película multicapa: se utilizan como capas funcionales para mejorar el rendimiento de la estructura general de la película.
Proporcionamos certificados de análisis (COA)hojas de datos de seguridad de materiales (MSDS) e informes de calidad relacionados para cada lote de cátodos de osmio. También ofrecemos servicios de pruebas de terceros para garantizar que los productos cumplen sus normas de calidad y los requisitos del proceso.
Fórmula molecular: Os
Peso molecular: 190,23 g/mol
Aspecto: Blanco plateado a blanco metálico azul grisáceo, superficie lisa o procesada con precisión
Densidad: alrededor de 22,59 g/cm³ (una de las densidades más altas entre los elementos naturales)
Punto de fusión: unos 3.033°C (punto de fusión ultraalto, adecuado para condiciones de temperatura extremadamente altas)
Punto de ebullición: alrededor de 5.012 °C
Estructura cristalina: empaquetamiento compacto hexagonal (hcp)
Palabra de señal:
Peligro
Indicaciones de peligro:
H228: Sólido inflamable
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
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