ULPMAT

Nitruro de hafnio

Chemical Name:
Nitruro de hafnio
Formula:
HfN
Product No.:
720700
CAS No.:
25817-87-2
EINECS No.:
247-282-3
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
720700ST001 HfN 99.5% (Hf+Zr) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
720700ST002 HfN 99.5% (Hf+Zr) Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
720700ST001
Formula
HfN
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
720700ST002
Formula
HfN
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Cátodos para sputtering de nitruro de hafnio Descripción general

Nitruro de hafnio son cátodos cerámicos avanzados diseñados específicamente para procesos de deposición de películas finas de alto rendimiento. Su alta pureza y excelente densidad garantizan una deposición de película fina uniforme y estable, una adherencia superior y un contenido de impurezas extremadamente bajo, satisfaciendo las demandas de la electrónica, la óptica y los recubrimientos protectores.

Ofrecemos cátodos de nitruro de hafnio para sputtering en una gran variedad de tamaños y formas, personalizables para satisfacer los requisitos específicos del cliente. También ofrecemos un completo servicio postventa para garantizar respuestas rápidas a cualquier pregunta que pueda tener durante el uso.

Productos destacados

Pureza: 99,5
La alta densidad garantiza una deposición uniforme de la película fina
Tamaños y formas personalizables
Adhesión al objetivo disponible en
Adecuado para dispositivos semiconductores, revestimientos ópticos y películas protectoras resistentes al desgaste

Aplicaciones del cátodo para sputtering de nitruro de hafnio

Semiconductores: Utilizado para la deposición de recubrimientos protectores a alta temperatura y alta frecuencia, mejorando el rendimiento y la durabilidad de los dispositivos.
Recubrimientos ópticos: Formación de películas protectoras de gran dureza, alto índice de refracción y resistencia al desgaste.
Recubrimientos protectores: Se utilizan para el endurecimiento superficial de herramientas de corte, piezas mecánicas y otras aplicaciones, mejorando la resistencia al desgaste y a la corrosión.
Películas finas funcionales: Utilizadas para la deposición de películas finas en dispositivos microelectrónicos y componentes ópticos especializados.

Informes

Proporcionamos un Certificado de Análisis (COA)hoja de datos de seguridad del material (MSDS) e informes técnicos relacionados para cada lote de cátodos para sputtering de HfN. También realizamos pruebas a terceros para garantizar que la calidad del producto cumple las normas internacionales y los requisitos del cliente.

Fórmula molecular: HfN
Peso molecular: Aproximadamente 195,63 g/mol
Aspecto: Blanco cerámico denso de color gris oscuro y superficie lisa
Densidad: Aproximadamente 12,7 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: Aproximadamente 3.500°C (punto de fusión alto)
Estructura cristalina: Estructura cúbica de cloruro sódico (tipo NaCl)

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

SKU 720700ST Categoría Marca:

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