ULPMAT

Indio metálico

Chemical Name:
Indio metálico
Formula:
In
Product No.:
4900
CAS No.:
7440-74-6
EINECS No.:
231-180-0
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
4900ST001 In 99.99% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
4900ST002 In 99.999% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
4900ST003 In 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
4900ST004 In 99.999% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
4900ST005 In 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
4900ST006 In 99.999% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
4900ST001
Formula
In
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
4900ST002
Formula
In
Purity
99.999%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
4900ST003
Formula
In
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
4900ST004
Formula
In
Purity
99.999%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
4900ST005
Formula
In
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
4900ST006
Formula
In
Purity
99.999%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm

Visión general de los cátodos para sputtering de indio metal

El indio (In) son materiales metálicos de alta pureza ampliamente utilizados en la deposición de películas finas, optoelectrónica y aplicaciones de semiconductores avanzados. Gracias a su excelente ductilidad, bajo punto de fusión y excelente conductividad, los cátodos de indio son la opción preferida para los procesos de PVD, especialmente en revestimientos conductores transparentes, películas de soldadura a baja temperatura y fabricación de dispositivos microelectrónicos.

Nuestros cátodos para sputtering de indio metálico presentan una pureza del 99,99% (4N) al 99,999% (5N), una alta densidad y una microestructura uniforme, garantizando un rendimiento constante tanto en la producción industrial como en la investigación científica.

Características principales de los cátodos para sputtering de indio

Alta pureza: 99,99% (4N)-99,999% (5N) para una calidad de película fina estable y mínimas impurezas.
Excelente trabajabilidad: Metal blando y dúctil con propiedades fiables de formación de película.
Densidad uniforme: Optimizado para velocidades de sputtering constantes y espesores de recubrimiento uniformes.
Amplias opciones de tamaño: Disponible en formas planas, giratorias y personalizadas.
Suministro estable: Adecuado para producción de gran volumen e investigación de laboratorio.

Aplicaciones del cátodo para sputtering In

Recubrimientos conductores transparentes: Esenciales para paneles de visualización, OLED, LCD y células solares.
Semiconductores Semiconductores: Utilizado en soldadura a baja temperatura y materiales de interconexión.
Optoelectrónica: Aplicado en transistores de película fina, fotodetectores y dispositivos de infrarrojos.
Materiales energéticos: Adecuado para I+D de electrodos y baterías de película fina.
Investigación científica: Muy utilizado en universidades y laboratorios de ciencia de materiales.

¿Por qué asociarse con nosotros?

Experiencia en materiales: Años de experiencia en cátodos metálicos para sputtering.
Soluciones personalizadas Personalizadas: Tamaños, formas y purezas flexibles para satisfacer los requisitos del proyecto.
Control de calidad: Análisis de impurezas ICP-MS para cada lote de producción.
Logística fiable: Embalaje seguro y entrega puntual en todo el mundo.
Asistencia técnica: Equipo profesional para ayudarle en el desarrollo de su película fina.

Preguntas frecuentes

F1. ¿Cuáles son las ventajas de los cátodos para sputtering de indio en comparación con los pellets o el alambre de indio?
A1. Los cátodos garantizan una mayor densidad, velocidades de sputtering uniformes y una mejor calidad de la película fina.

F2. ¿Qué grados de pureza hay disponibles?
A2. Ofrecemos purezas 4N (99,99%) y 5N (99,999%), con grados personalizados disponibles bajo pedido.

F3. ¿Se pueden unir los cátodos de indio?
A3. Sí, los cátodos de indio pueden adherirse a placas de soporte (cobre, molibdeno, titanio) para mejorar la estabilidad.

F4. ¿Cómo se embalan los cátodos de indio para sputtering?
A4. Los cátodos se sellan al vacío con un acolchado protector y se envían en cajas de cartón rígidas aptas para la exportación.

F5. ¿Qué industrias utilizan principalmente cátodos para sputtering de indio metal?
A5. Se aplican ampliamente en los sectores de la tecnología de visualización, la optoelectrónica, los semiconductores y las energías renovables.

Informes

Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Hoja de datos técnicos (TDS)
Hoja de datos de seguridad del material (MSDS)
Informes de pruebas de terceros disponibles previa solicitud

Fórmula química: En
Peso atómico: 114,82 g/mol
Densidad: 7,31 g/cm³
Punto de fusión: 156,6°C
Punto de ebullición: 2080°C
Estructura cristalina: Tetragonal
Pureza: 99,99% (4N), 99,999% (5N) Disponible
Formas: Plana, giratoria, unida, a medida

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y encajonadas para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

Documentos

No PDF files found.

Más información

más productos

CONTACT US

CONTÁCTANOS

Rociado térmico

Nuestro sitio web ha sido completamente actualizado