ULPMAT

Hafnio metálico

Chemical Name:
Hafnio metálico
Formula:
Hf
Product No.:
7200
CAS No.:
7440-58-6
EINECS No.:
231-166-4
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
7200ST001 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
7200ST002 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
7200ST003 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
7200ST004 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
7200ST005 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
7200ST006 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
7200ST007 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
7200ST001
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
7200ST002
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
7200ST003
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
7200ST004
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
7200ST005
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
7200ST006
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
7200ST007
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Cátodos para sputtering de hafnio metálico Descripción general

Los cátodos para son materiales de alto rendimiento diseñados específicamente para procesos de deposición de películas finas. Con una pureza del 99,9%, ofrecen una excelente estabilidad térmica, densidad y resistencia, garantizando una deposición uniforme de la película fina, una fuerte adherencia y unos niveles de impurezas extremadamente bajos.

Ofrecemos cátodos para sputtering de metal de hafnio en una gran variedad de formas y tamaños, incluidos redondos, rectangulares y personalizados, para satisfacer las necesidades específicas de nuestros clientes. También ofrecemos un completo servicio postventa; no dude en ponerse en contacto con nosotros si tiene alguna pregunta.

Productos destacados

Pureza: 99,9

La alta densidad garantiza una deposición uniforme de la película fina

Alta resistencia y estabilidad térmica para aplicaciones de sputtering de alta potencia

Tamaños y formas personalizables

Servicios de servicios disponibles

Adecuado para aplicaciones en semiconductores, revestimientos ópticos, aeroespacial y otros campos

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de metal de hafnio

Semiconductores: Se utiliza para la deposición de películas finas a alta temperatura y alta potencia, como capas de electrodos y de contacto.

Recubrimientos ópticos: Utilizados para formar películas finas altamente reflectantes y de gran dureza para aplicaciones como componentes ópticos y espejos. Aeroespacial: Los cátodos para sputtering de Hf ofrecen una excelente resistencia a la corrosión y un alto rendimiento en entornos de alta temperatura y alta presión, por lo que se utilizan ampliamente en revestimientos aeroespaciales.
Eléctrico y Energía: Ofrecen una estabilidad y fiabilidad excepcionales en aplicaciones como películas solares y películas funcionales.

Informes

Proporcionamos un Certificado de Análisis (COA)hoja de datos de seguridad del material (MSDS) y otros informes relevantes con cada envío. También apoyamos las pruebas de terceros para mejorar la garantía de calidad del producto.

Fórmula molecular: Hf
Peso molecular: 178,49 g/mol
Aspecto: Metal blanco plateado de superficie lisa
Densidad: Aproximadamente 13,31 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: Aproximadamente 2.233 °C
Estructura cristalina: Hexagonal compacto (hcp)

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

SKU 7200ST Categoría Marca:

Documentos

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