ULPMAT

Estaño metálico

Chemical Name:
Estaño metálico
Formula:
Sn
Product No.:
5000
CAS No.:
7440-31-5
EINECS No.:
231-141-8
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
5000ST001 Sn 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
5000ST002 Sn 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
5000ST003 Sn 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
5000ST004 Sn 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
5000ST005 Sn 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
5000ST006 Sn 99.99% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
5000ST001
Formula
Sn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
5000ST002
Formula
Sn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
5000ST003
Formula
Sn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
5000ST004
Formula
Sn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
5000ST005
Formula
Sn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
5000ST006
Formula
Sn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Visión general de los cátodos para sputtering de estaño metálico

Estaño metálico Es un cátodo metálico de gran pureza utilizado en los procesos de deposición por sputtering para aplicaciones electrónicas, de semiconductores y de películas finas. El estaño es muy apreciado por su excelente conductividad, resistencia a la corrosión y estabilidad, lo que lo convierte en un material ideal para aplicaciones en electrónica, almacenamiento de energía y revestimientos ópticos.

Ofrecemos cátodos para sputtering de estaño metálico en varios grados de pureza y tamaños, adaptados para satisfacer los requisitos específicos de diferentes sistemas y aplicaciones de sputtering. Nuestro equipo técnico está a su disposición para ayudarle en la selección de materiales, la evaluación del rendimiento y el desarrollo de aplicaciones. Para cualquier consulta o soporte técnico, no dude en ponerse en contacto con nosotros.

Características del producto

Pureza: 99,99
Excelente conductividad eléctrica: Ideal para la deposición de películas finas en dispositivos semiconductores y electrónicos
Resistencia a la corrosión: Proporciona un rendimiento fiable en diversas condiciones ambientales
Estabilidad térmica: Adecuado para procesos de sputtering a alta temperatura
Tamaños y formas personalizables personalizables: Los tamaños y formas de los cátodos pueden personalizarse para satisfacer las necesidades específicas de los sistemas de sputtering

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de estaño metálico

Fabricación de semiconductores de semiconductores: Utilizado para la deposición de películas finas de estaño en la fabricación de semiconductores, como para interconexiones, condensadores y dispositivos de memoria
Células solares: Ideal para la deposición de capas de contacto posterior y revestimientos conductores en dispositivos fotovoltaicos
Revestimientos ópticos: Aplicado en la deposición de películas de estaño para revestimientos ópticos, incluidos espejos y filtros
Componentes electrónicos: Se utiliza en la producción de películas finas para componentes como resistencias, condensadores y sensores
Catálisis: Empleado en revestimientos de catalizadores para diversos procesos químicos

Informes

Cada envío de cátodos para sputtering de estaño metálico va acompañado de:
Certificado de análisis (COA)
Hoja de datos de seguridad del material (MSDS)
Informes opcionales de pruebas de terceros para una mayor garantía de calidad

PREGUNTAS FRECUENTES

P1: ¿Qué grados de pureza hay disponibles para los cátodos para sputtering de estaño metálico?
R1: Ofrecemos cátodos con una pureza del 99,9% o superior, lo que garantiza películas finas de alta calidad con una conductividad y estabilidad excelentes.

P2: ¿Pueden utilizarse los cátodos para sputtering de estaño metálico en procesos de sputtering de alta temperatura?
A2: Sí, los cátodos para sputtering de estaño presentan una excelente estabilidad térmica, lo que los hace adecuados para aplicaciones de sputtering a alta temperatura.

P3: ¿Cómo se utiliza el estaño en la fabricación de semiconductores?
A3: El estaño se utiliza para la deposición de películas finas conductoras en dispositivos semiconductores, incluidos los interconectores y condensadores, proporcionando un rendimiento eléctrico fiable.

P4: ¿Pueden personalizar el tamaño y la forma de los cátodos para sputtering de estaño metálico?
A4: Sí, ofrecemos tamaños y formas personalizados para cátodos para sputtering de estaño que se adaptan a su sistema de sputtering específico y a los requisitos de su aplicación.

Fórmula química:Sn
Aspecto:Metálico, brillante, gris a plateado
Densidad:7,3 g/cm³
Punto de fusión:231,9°C
Punto de ebullición:2270°C
Estructura cristalina:Cúbica centrada en el cuerpo (BCC)

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y encajonadas para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

SKU 5000ST Categoría Marca:

Documentos

No PDF files found.

Más información

más productos

CONTACT US

CONTÁCTANOS

Rociado térmico

Nuestro sitio web ha sido completamente actualizado