Los gránulos
de dióxido de silicio
son materiales particulados inorgánicos de alta pureza con una excelente estabilidad química y térmica. Se utilizan ampliamente en materiales de recubrimiento, cerámica electrónica, fabricación de vidrio y películas delgadas funcionales.
Podemos proporcionar gránulos de dióxido de silicio compatibles con el proceso y apoyar la integración técnica de las especificaciones de los gránulos, los parámetros de aplicación y las tecnologías de procesamiento. ¡Póngase en contacto con nosotros
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Alta inercia química.
Excelente estabilidad térmica.
Tamaño de partícula uniforme y buena fluidez.
Adecuado para diversos procesos de procesamiento y deposición.
Se puede utilizar en materiales de recubrimiento, cerámica y películas delgadas.
Materiales de recubrimiento:
los gránulos de SiO₂ se pueden utilizar para preparar recubrimientos funcionales y películas delgadas protectoras, mejorando las propiedades de la superficie y la durabilidad.
Cerámica electrónica:
como materia prima para materiales cerámicos, mejora el rendimiento del aislamiento y la estabilidad térmica de los dispositivos.
Fabricación de vidrio:
se utilizan en la producción de vidrio y materiales ópticos, mejorando la uniformidad del material y la estabilidad térmica.
Investigación y validación de procesos:
apoya la investigación y el desarrollo y la optimización de parámetros de nuevos materiales y procesos de película fina.
P1: ¿Para qué aplicaciones son adecuados los gránulos de dióxido de silicio?
R1: Se utilizan principalmente en materiales de recubrimiento, cerámica electrónica, vidrio y preparación de películas finas funcionales.
P2: ¿Son estables las partículas de SiO₂ a altas temperaturas?
R2: Las partículas mantienen su estabilidad química y física incluso a altas temperaturas.
P3: ¿Afecta la morfología de las partículas a las aplicaciones?
R3: Una morfología de partículas uniforme y estable ayuda a mejorar la consistencia del procesamiento y las propiedades del material.
P4: ¿Se pueden utilizar las partículas de SiO₂ directamente en películas finas funcionales?
R4: Sí, se pueden utilizar como materia prima para la deposición de películas finas y recubrimientos funcionales.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición
Nos especializamos en el suministro de materiales particulados inorgánicos de alto rendimiento, proporcionando partículas de dióxido de silicio estables y trazables para ayudar a los clientes a lograr una alta consistencia y fiabilidad en aplicaciones de I+D y procesos.
Fórmula molecular: SiO2
Peso molecular: 60,08 g/mol
Aspecto: Gránulos blancos
Densidad: 2,65 g/cm³ (sílice fundida)
2,2 g/cm³ (partículas de polvo amorfo sinterizado)
Punto de fusión: 1710 °C
Punto de ebullición: 2230 °C
Estructura cristalina: Tetragonal/Hexagonal (cristal de cuarzo)
Amorfa (partículas sinterizadas)
Embalaje interior: Bolsas selladas al vacío y envasadas en cajas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o cajas de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
