ULPMAT

Boruro de hafnio

Chemical Name:
Boruro de hafnio
Formula:
HfB2
Product No.:
720500
CAS No.:
12007-23-7
EINECS No.:
234-500-7
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
720500ST001 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
720500ST002 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
720500ST003 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
720500ST004 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
720500ST001
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
720500ST002
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
720500ST003
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
720500ST004
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Cátodos para sputtering de boruro de hafnio Descripción general

Los cátodos para sputtering de son materiales de alto rendimiento diseñados específicamente para procesos de deposición de películas finas. Con una pureza del 99,5%, ofrecen una excelente densidad y dureza, garantizando una deposición uniforme de película fina y una fuerte adherencia, lo que los hace adecuados para una gran variedad de entornos de alta temperatura y alta presión.

Ofrecemos cátodos para sputtering de boruro de hafnio en una gran variedad de formas y tamaños, incluidos redondos, rectangulares y personalizados, para satisfacer las necesidades específicas de nuestros clientes. También ofrecemos un completo servicio postventa; no dude en ponerse en contacto con nosotros si tiene alguna pregunta.

Productos destacados

Pureza: 99,5
La alta densidad garantiza una deposición uniforme de la película fina
Gran dureza y resistencia, adecuado para entornos de alta temperatura y alta presión
Tamaños y formas personalizables
Posibilidad de adhesión a objetivos
Adecuado para semiconductores, revestimientos ópticos, aeroespacial y otros campos

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de boruro de hafnio

Semiconductores: Debido a su excelente conductividad y estabilidad térmica, se utiliza ampliamente en la deposición de dispositivos de alta potencia y materiales optoelectrónicos.
Recubrimientos ópticos: Utilizado para formar películas finas de alta dureza y alta reflectividad, es especialmente adecuado para aplicaciones como componentes ópticos y espejos. Aeroespacial: El alto punto de fusión y la resistencia a altas temperaturas del HfB₂ lo convierten en una opción excepcional para aplicaciones aeroespaciales, por lo que es adecuado para materiales de protección a altas temperaturas y blindaje térmico.
Electricidad y energía: Es adecuado para la deposición de dispositivos electrónicos de alta potencia, láminas delgadas solares y otras láminas funcionales de alto rendimiento.

Informes

Proporcionamos un Certificado de análisis (COA)hoja de datos de seguridad del material (MSDS) y otros informes relevantes con cada envío. También realizamos pruebas a terceros para garantizar la calidad y fiabilidad del producto.

Fórmula molecular: HfB₂
Peso molecular: 190,08 g/mol
Aspecto: Un material duro con un brillo metálico de color gris plateado
Densidad: Aproximadamente 10,5 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: Aproximadamente 3.250°C
Estructura cristalina: Hexagonal

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

SKU 720500ST Categoría Marca:

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