Boro los cátodos de boro para sputtering están fabricados con boro de gran pureza, de color gris oscuro a negro con brillo metálico y estructura cristalina atómica. Con alta dureza, alto punto de fusión y excelente estabilidad química, los cátodos de boro permiten la deposición de películas finas densas, uniformes y bien adheridas. Se utilizan ampliamente en aplicaciones de semiconductores, optoelectrónica, revestimiento óptico y revestimiento duro, incluida la preparación de películas finas de boro, películas finas de boruro (como B₄C, TiB₂, MoB₂) y películas semiconductoras dopadas con boro. Los cátodos de boro pueden fabricarse en forma circular, rectangular u otras formas personalizadas para satisfacer los diferentes requisitos del proceso
Alta pureza: Estándar ≥99,5%, pureza ultra alta hasta ≥99,9% Excelentes propiedades físicas: Alto punto de fusión (~2076 °C), alta dureza (Mohs ~9,3) Fuerte estabilidad química: Resistente a ácidos y álcalis a temperatura ambiente Calidad superior de la película: Produce películas densas y uniformes con gran adherencia Especificaciones personalizables: Tamaño, forma y pureza disponibles bajo pedido
Industria de semiconductores: los cátodos para sputtering de boro se utilizan para películas de silicio dopado con boro, fabricación de semiconductores tipo PRecubrimientos ópticos: Películas antirreflectantes, resistentes al desgaste y a altastemperaturas Recubrimientos duros: Producción de recubrimientos como carburo de boro (B₄C) y diboruro de titanio (TiB₂)Industria nuclear: los cátodos para sputtering de boro se utilizan para Películas finas con alta capacidad de absorción de neutrones
Utilizar guantes limpios o protectores de dedos al manipular para evitar la contaminación. Almacenar en un envase sellado, a prueba de humedad, en un ambiente fresco, seco y limpio. Mantener alejado de agentes oxidantes fuertes, halógenos y fuentes de choque mecánico.
Aspecto: Sólido gris oscuro a negro
Estructura cristalina: Cristal atómico, dureza Mohs 9,3
Densidad: ~2,34 g/cm³ (puede variar según el método de sinterización)
Punto de fusión: 2076 °C
Estabilidad química: No reacciona con el oxígeno ni con ácidos diluidos a temperatura ambiente; reacciona enérgicamente con halógenos y agentes oxidantes fuertes
Embalaje interior: Envasado al vacío en bolsas de polietileno antiestáticas.
Embalaje exterior: Caja de cartón antichoque o caja de madera con forro de espuma
Suministro estándar: 1 pieza/caja o según los requisitos del cliente
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