Tantalio Tungsteno Es un material para sputtering de alto punto de fusión y alta resistencia fabricado con una aleación de tántalo (Ta) y wolframio (W), especialmente desarrollado para procesos de deposición de películas finas en condiciones adversas. Su excelente estabilidad térmica, resistencia a la corrosión y resistencia mecánica lo convierten en la elección ideal para entornos de plasma y procesos a alta temperatura.
Podemos suministrar cátodos para sputtering de aleación de tántalo-tungsteno en una variedad de formas y tamaños, incluyendo redondos, rectangulares o personalizados, para satisfacer las diversas necesidades de aplicación en la investigación científica y la industria. También proporcionamos un completo postventa para ayudarle a completar eficazmente el despliegue de material.
Composición: Personalizable
Pureza: 99,95%
Punto de fusión hasta > 3000°C, adecuado para procesos de deposición a alta temperatura
Excelente estabilidad térmica y resistencia mecánica
Gran resistencia a la corrosión por plasma, adecuado para entornos de deposición agresivos
El tamaño, la proporción de aleación y la estructura del blanco posterior pueden personalizarse según las necesidades del cliente
Semiconductores de semiconductores: Como capa de barrera de difusión o electrodo metálico de alta temperatura, posee conductividad y estabilidad
Proceso de circuitos integrados: Se utiliza como capa de revestimiento y sustrato en interconexiones de alta densidad (HDI) o estructuras de interconexión de cobre
Preparación de revestimientos duros: Proporciona alta dureza y resistencia a la corrosión en el recubrimiento de herramientas y capa de película resistente al desgaste
Optoelectrónica y nuevos materiales energéticos: Lograr el control del rendimiento en películas finas funcionales especiales y sistemas de objetivos compuestos
Proporcionamos un certificado de análisis (COA)hoja de datos de seguridad del material (MSDS) e informe de pruebas de los componentes relevantes para cada lote de objetivos de aleación de tantalio y tungsteno. También apoyamos los informes de pruebas de agencias de terceros para garantizar la transparencia de los datos y el control de calidad.
Fórmula molecular: TaW
Aspecto: Blanco metálico denso de color gris plateado con superficie lisa
Densidad: alrededor de 16,5 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: alrededor de 3.170 °C (punto de fusión de la aleación, ligeramente diferente según la proporción de tántalo y wolframio)
Estructura cristalina: cúbica centrada en el cuerpo (BCC)
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
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