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Aleación de níquel y silicio

Chemical Name:
Aleación de níquel y silicio
Formula:
NiSi
Product No.:
281402
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Polvo
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
281402PD001 NiSi 99.9% -100 Mesh Inquire
Product ID
281402PD001
Formula
NiSi
Purity
99.9%
Dimension
-100 Mesh

Aleación de níquel y silicio en polvo

Polvo de aleación de níquel-silicio es un material compuesto de níquel-silicio de gran pureza ampliamente utilizado en dispositivos semiconductores, películas finas funcionales, materiales conductores e investigación y desarrollo científicos.

Ofrecemos polvo de NiSi químicamente estable y de tamaño uniforme, que puede personalizarse según los requisitos del proceso y la aplicación. Por favor, póngase en contacto con nosotros para obtener información información técnica detallada.

Productos destacados

Compuesto de níquel-silicio de gran pureza
Polvo uniforme
Fácil de procesar y dispersar
Excelente conductividad eléctrica
Buena estabilidad térmica
Consistencia fiable de los lotes
Personalizable envasado y especificaciones

Aplicaciones del polvo de aleación de níquel y silicio

Semiconductores Dispositivos: Adecuado para la preparación de películas finas semiconductoras, mejorando el rendimiento del dispositivo y la estabilidad de la conductividad.
Películas finas funcionales: Puede utilizarse para preparar películas conductoras, películas protectoras y otras películas finas funcionales, optimizando las propiedades del material.
Materiales conductores: Como aditivo conductor o material de revestimiento, mejorando la conductividad y la durabilidad de los dispositivos electrónicos.
Investigación científica y desarrollo de procesos: Adecuado para que las instituciones de investigación realicen pruebas de rendimiento de materiales NiSi, desarrollo de nuevos materiales y experimentos de optimización de procesos.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Se puede personalizar el tamaño de las partículas del polvo de NiSi?
R1: Sí, ofrecemos polvos con varios rangos de tamaño de partícula para satisfacer los diferentes requisitos de procesos y aplicaciones.

P2: ¿Se oxida o descompone fácilmente el polvo?
A2: Es estable en condiciones secas a temperatura ambiente. Se recomienda el almacenamiento sellado para evitar la absorción de humedad.

P3: ¿Es adecuado el polvo de NiSi para la preparación de películas finas semiconductoras?
A3: Sí, su alta pureza y uniformidad son beneficiosas para la deposición de películas finas y la optimización del rendimiento de los dispositivos.

P4: ¿Puede utilizarse el polvo en materiales conductores y experimentos de investigación científica?
A4: Sí, puede mejorar la conductividad y facilitar las pruebas de materiales y el desarrollo de procesos en instituciones de investigación.

Informe

Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha técnica (TDS)
Ficha de datos de seguridad (FDS)
Informes de pruebas de terceros disponibles previa solicitud

¿Por qué elegirnos?

Estamos especializados en la investigación y el suministro de polvo de NiSi de gran pureza, haciendo hincapié en la uniformidad del polvo, la estabilidad química y la compatibilidad de los procesos, proporcionando un soporte material fiable para dispositivos semiconductores, películas finas funcionales, materiales conductores y aplicaciones de investigación científica.

Fórmula molecular: NiSi
Aspecto: Polvo negro grisáceo
Estructura cristalina: Estructura cristalina cúbica

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

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