Aleación de cobre y silicio

Objetivos de pulverización de aleación de cobre y silicio Descripción general

Los objetivos de pulverización de aleación
de cobre y silicio
son objetivos de recubrimiento de aleación de cobre y silicio que se utilizan principalmente para depositar películas funcionales de alto rendimiento en componentes microelectrónicos y resistentes al desgaste.

Fabricamos blancos de aleación con una composición precisa y una microestructura uniforme. Póngase en contacto con nosotros
para obtener documentación técnica
detallada e información sobre muestras.

Características destacadas del producto

Forma capas de siliciuro de baja resistencia
Recubrimientos densos y fuertemente adheridos
Excelente resistencia al desgaste y a la oxidación
Estructura del blanco uniforme y estable

Aplicaciones de los blancos de pulverización de aleación de cobre y silicio

Interconexiones microelectrónicas: Sirve como material de contacto o capa de barrera de difusión en dispositivos semiconductores, lo que garantiza conexiones de circuitos estables y fiables.
Recubrimientos protectores resistentes al desgaste: se aplican a herramientas de corte y componentes mecánicos críticos para mejorar significativamente la resistencia al desgaste y la resistencia a la oxidación a altas temperaturas.
Fotovoltaica y pantallas: sirve como material de electrodo para células solares
de película fina o para depositar películas conductoras en determinadas tecnologías de pantalla.
Películas resistivas de precisión: se utilizan para fabricar elementos resistivos de película fina con una excelente estabilidad térmica y alta precisión.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son los componentes principales de la película formada a partir de blancos de cobre y silicio?
R1: Principalmente compuestos de cobre y silicio de baja resistencia (silicidas) formados mediante tratamiento térmico posterior o reacciones in situ, que presentan una excelente conductividad y estabilidad térmica.

P2: ¿Cómo afecta el contenido de silicio a las propiedades de la película?
R2: El contenido de silicio influye directamente en el tipo de siliciuro formado, así como en la resistividad, la dureza y la estabilidad térmica de la película. Se requiere una formulación precisa basada en los objetivos específicos de la aplicación.

P3: ¿Cuál es la conductividad de esta película?
R3: La película de compuesto de cobre y silicio resultante presenta una buena conductividad con una resistividad entre los niveles metálico y semiconductor, lo que la hace adecuada para aplicaciones electrónicas específicas.

P4: ¿Cuáles son las principales ventajas con respecto a los blancos de cobre puro?
R4: Las ventajas clave residen en la capacidad del silicio para suprimir eficazmente la difusión de los átomos de cobre, mejorar la estabilidad térmica y la resistencia a la oxidación, y permitir la formación de siliciuros funcionales a través de reacciones químicas.

Informe

Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)

Ficha técnica (TDS)

Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición

¿Por qué elegirnos?

Nos especializamos en la I+D y la producción de blancos de aleación de alto rendimiento. Aprovechando nuestro profundo conocimiento de la ciencia de los materiales y nuestras capacidades de fabricación de precisión, garantizamos un rendimiento excepcional de los productos y la consistencia entre lotes. Comprometidos con ofrecer soluciones técnicas profesionales y un suministro fiable, somos su socio de confianza.