Los objetivos de pulverización
de cobre y cromo
son objetivos de aleación que equilibran la conductividad y la resistencia al calor, utilizados principalmente en procesos de deposición física de vapor para dispositivos electrónicos y películas delgadas funcionales.
Ofrecemos objetivos de pulverización con diferentes proporciones de cobre y cromo y en varios tamaños, lo que permite un procesamiento personalizado y la colaboración técnica
. Póngase en contacto con nosotros
para obtener soluciones detalladas.
Distribución uniforme de la composición de la aleación.
Conductividad estable.
Resistencia a altas temperaturas y a la pulverización.
Alta densidad superficial del blanco.
Buena adhesión de la película.
Compatible con diversos sistemas de pulverización.
Admite formas redondas, rectangulares e irregulares.
Interconexiones
de semiconductores
y películas delgadas funcionales: se utilizan para depositar películas metálicas conductoras o funcionales que cumplen los requisitos de estabilidad y consistencia de los circuitos integrados.
Contactos eléctricos y recubrimientos resistentes al desgaste: se utilizan en materiales de contacto eléctrico y películas resistentes al desgaste, equilibrando la conductividad y la vida útil.
Protección industrial y recubrimientos funcionales: adecuados para preparar películas delgadas funcionales resistentes al calor, a la corrosión o compuestas, mejorando las propiedades superficiales de los componentes industriales.
Investigación científica y procesamiento de películas delgadas: ampliamente utilizado en el estudio de nuevas películas delgadas de aleación y propiedades de los materiales, lo que garantiza la repetibilidad experimental y la controlabilidad de la película.
P1: ¿Cuáles son las ventajas de los blancos de CuCr en comparación con los blancos de cobre puro?
R1: La adición de cromo mejora significativamente la resistencia al calor y la capacidad antimigración, lo que hace que la película sea más estable en condiciones de alta temperatura.
P2: ¿Es este objetivo de aleación adecuado para la pulverización catódica de CC o RF?
R2: Debido a la buena conductividad de la aleación, la pulverización catódica de CC suele ser suficiente para lograr resultados de deposición estables.
P3: ¿Afecta la proporción de cobre y cromo al rendimiento de la película?
R3: Sí, las diferentes proporciones de los componentes afectarán a la resistividad, la dureza y la resistencia al calor de la película. Se debe seleccionar la proporción adecuada en función de la aplicación.
P4: ¿El objetivo requiere un tratamiento previo antes de su uso?
R4: Por lo general, no se necesita ningún tratamiento complejo; basta con una simple limpieza. Para el primer uso, se puede realizar un breve tiempo de pulverización previa para estabilizar la superficie del objetivo.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición
Llevamos mucho tiempo centrados en la producción y el control de calidad de los blancos de pulverización de aleaciones. Desde la proporción de las materias primas hasta los procesos de densificación de los blancos, gestionamos estrictamente todos los aspectos para garantizar que nuestros blancos de aleación de cobre y cromo satisfagan las necesidades de la investigación científica y las aplicaciones industriales en términos de consistencia de la película, estabilidad y fiabilidad de los lotes.
Fórmula química: CuCr
Aspecto: Blanco denso, Blanco amarillo
Embalaje interior: Bolsas selladas al vacío y envasadas en cajas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o cajas de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
