Descripción general de la deposición de películas delgadas
La deposición de película delgada es el proceso de crear una capa delgada de material sobre la superficie de un sustrato. Entre estos métodos, la deposición física en fase vapor (PVD) es una tecnología de recubrimiento al vacío respetuosa con el medio ambiente. Las técnicas comunes de PVD incluyen la pulverización catódica, la evaporación térmica, la evaporación por haz de electrones y el recubrimiento iónico. Cada método de recubrimiento tiene sus características y ventajas únicas, y la elección óptima depende de la aplicación específica y de los materiales utilizados.

Suministro de materiales
Ofrecemos una gama completa de materiales de deposición de película delgada adecuados para procesos de pulverización catódica y evaporación térmica/por haz de electrones.

• Blancos de pulverización: metales, óxidos, nitruros y compuestos, disponibles en formas circulares, rectangulares, tubulares y personalizadas.
• Materiales de evaporación: partículas, gránulos y formas a granel con excelente estabilidad térmica y propiedades de evaporación.
• Composiciones personalizadas: adaptadas a los requisitos específicos de cada aplicación, incluyendo los niveles de dopaje, las proporciones de aleación y el control de la microestructura.

Áreas de aplicación

• Industria electrónica: circuitos integrados, pantallas, dispositivos electrónicos
• Industria óptica: recubrimientos ópticos, instrumentos ópticos, células solares
• Dispositivos médicos: biosensores, instrumentos médicos, órganos artificiales
• Otros campos: materiales decorativos, fabricación de herramientas, catalizadores