Los objetivos de pulverización
de óxido de potasio y tantalio
son objetivos cerámicos funcionales basados en óxidos con estructura de perovskita, que se caracterizan por su composición uniforme y estabilidad estructural. Estos objetivos se utilizan principalmente para preparar películas delgadas de óxido, que se aplican en los campos de los materiales electrónicos y la investigación de películas delgadas funcionales.
Ofrecemos blancos de pulverización de KTaO3 en varios tamaños, espesores y métodos de montaje, y admitimos el procesamiento personalizado. Póngase en contacto con nosotros
para encontrar la solución que mejor se adapte a sus necesidades.
Blanco cerámico de alta densidad
Proceso de pulverización estable y fiable
Buena repetibilidad de la composición de la película delgada
Admite procesos de pulverización por radiofrecuencia
Posibilidad de unión a la placa base
Adecuado para investigación y producción a escala piloto
Preparación de películas delgadas funcionales de óxido: se utiliza comúnmente para preparar películas delgadas de óxido con estructura de perovskita, lo que ayuda a obtener capas funcionales con una composición estable y un espesor controlable.
Investigación de películas delgadas electrónicas y dieléctricas: en la investigación de materiales electrónicos, este blanco se puede utilizar para la deposición de películas delgadas dieléctricas o funcionales para evaluar el rendimiento de los dispositivos.
Desarrollo de películas delgadas multicapa y estructuras heterogéneas: adecuado para la preparación de películas delgadas multicapa o de heterounión, lo que proporciona una valiosa referencia para el control de calidad de la interfaz.
Optimización de los parámetros del proceso y las condiciones de deposición: este objetivo se utiliza habitualmente en la fase de desarrollo del proceso de pulverización para estudiar los efectos de la potencia, la atmósfera y la temperatura en el rendimiento de la película delgada.
P1: ¿El objetivo de pulverización de óxido de tantalio y potasio es adecuado para la pulverización de CC o RF?
R1: Al ser un objetivo cerámico, generalmente es más adecuado para procesos de pulverización de RF.
P2: ¿El objetivo es propenso a agrietarse durante la pulverización?
R2: En condiciones de proceso adecuadas, la estructura del objetivo es estable y el agrietamiento no supone ningún problema.
P3: ¿Pueden proporcionar objetivos unidos a una placa base?
R3: Sí, ofrecemos servicios de unión con cobre u otras placas base de uso común.
P4: ¿El objetivo requiere un tratamiento especial antes de su uso?
R4: Por lo general, no se requiere ningún tratamiento especial; basta con seguir los procedimientos estándar de uso de objetivos de pulverización.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición
Contamos con una amplia experiencia en blancos de pulverización de cerámica de óxido, lo que nos permite ofrecer un apoyo fiable en cuanto a la consistencia de los materiales, la precisión del procesamiento y la adecuación de las aplicaciones, ayudando a nuestros clientes a avanzar de forma constante en la I+D de películas finas y la validación de procesos.
Fórmula molecular: KTaO₃
Peso molecular: 268,05
Aspecto: Material blanco grisáceo en blanco.
Densidad: ≥ 6,75 g/cm³ (Densidad teórica ≥ 95%)
Punto de fusión: Aproximadamente 1320 °C
Estructura cristalina: Sistema cristalino cúbico (estructura perovskita, estructura policristalina cerámica)
Embalaje interior: Bolsas selladas al vacío y envasadas en cajas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o cajas de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
