Los sustratos
de óxido de litio y niobio
son sustratos de materiales funcionales muy estables, adecuados para el crecimiento de películas finas y la fabricación de dispositivos electrónicos. Se utilizan ampliamente en la investigación de baterías de ionen litio, dispositivos optoelectrónicos y la deposición de recubrimientos funcionales.
Ofrecemos sustratos de LNO en varios tamaños y espesores, con superficies lisas y orientaciones cristalinas seleccionables para satisfacer las necesidades de la investigación y las aplicaciones industriales. ¡Póngase en contacto con nosotros
ahora para obtener muestras y soluciones personalizadas!
Orientación cristalina controlable, beneficiosa para el crecimiento de películas delgadas
Superficie lisa, baja tasa de defectos
Tamaño y espesor personalizables
Alta estabilidad térmica, adecuada para procesos a alta temperatura
Apoya la investigación y las aplicaciones industriales
Respuesta rápida de nuestro equipo técnico
Deposición de películas delgadas:
los sustratos de LNO se utilizan en procesos de preparación de películas delgadas, como pulverización catódica, PLD y CVD, para garantizar la uniformidad de la película y la calidad de la cristalinidad.
Investigación sobre baterías de ionen litio:
como sustrato funcional, es compatible con la deposición y las pruebas de rendimiento de materiales de electrodos de alto rendimiento.
Dispositivos optoelectrónicos y microelectrónicos:
proporciona sustratos planos con orientación cristalina adecuados para el crecimiento de sensores, dispositivos ópticos y estructuras microelectrónicas.
P1: ¿Qué opciones de orientación cristalina hay disponibles para los sustratos de LNO?
R1: Hay disponibles múltiples orientaciones cristalinas, como (001), (110), etc., que se seleccionan según los requisitos experimentales.
P2: ¿Se pueden personalizar el tamaño y el grosor del sustrato?
R2: Sí, podemos proporcionar diversas especificaciones según los requisitos del equipo del cliente.
P3: ¿Cuál es la rugosidad de la superficie del sustrato LNO?
R3: La superficie está pulida con precisión, con una rugosidad inferior al nivel nanométrico, adecuada para la deposición de películas delgadas de alta precisión.
P4: ¿Se puede utilizar para procesos de película fina a alta temperatura?
R4: Adecuado para el procesamiento a alta temperatura, con alta estabilidad del material, lo que garantiza un crecimiento estable de la película fina.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición
Contamos con muchos años de experiencia en la producción de sustratos de materiales funcionales. Nuestros productos tienen superficies lisas y orientaciones cristalinas controlables, lo que favorece la investigación científica y las aplicaciones industriales. Nuestro equipo técnico puede proporcionar soluciones personalizadas y una respuesta rápida para ayudar a los clientes a completar de manera eficiente la deposición de películas delgadas y la fabricación de dispositivos.
Peso molecular: 147,85 g/mol
Aspecto: Cristal único incoloro y transparente o ligeramente tintado/oblea pulida.
Densidad: 4,64 g/cm³
Punto de fusión: 1253 °C
Estructura cristalina: Trigonal
Embalaje interior: Bolsas selladas al vacío y envasadas en cajas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o cajas de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros