Dióxido de silicio

Descripción general del objetivo de anillo de dióxido de silicio

El objetivo de anillo
de dióxido de silicio
es un objetivo de anillo cerámico de alta pureza diseñado específicamente para sistemas de pulverización catódica por centrifugación con magnetrón, que garantiza la uniformidad y la estabilidad del proceso en la deposición de películas delgadas. Se utiliza ampliamente en la preparación de películas delgadas ópticas
, dispositivos electrónicos y recubrimientos protectores.

Ofrecemos objetivos de anillo de SiO2 compatibles con varios sistemas de pulverización catódica por centrifugación y brindamos asistencia técnica para la integración del tamaño, la estructura y los parámetros de deposición del objetivo. ¡Póngase en contacto con nosotros
ahora mismo!

Características destacadas del producto

Diseño en forma de anillo, adecuado para sistemas de pulverización catódica por centrifugación.
Alta estabilidad térmica.
Alta uniformidad en la deposición de películas finas.
Gran compatibilidad con los procesos.
Lotes estables, buena consistencia

. Aplicaciones del blanco anular de dióxido de silicio

Deposición de películas finas ópticas:
los blancos anulares de SiO₂ se pueden utilizar para preparar películas transparentes, películas antirreflectantes y otras películas finas con funciones ópticas.
Capas funcionales de dispositivos electrónicos:
adecuados para la deposición de capas funcionales en semiconductores y dispositivos electrónicos, lo que mejora la consistencia del rendimiento de los dispositivos.
Recubrimientos protectores:
se utilizan para preparar películas delgadas resistentes a la corrosión y protectoras, lo que mejora las propiedades de la superficie del material.
Investigación y optimización de procesos:
admite la investigación sobre nuevos procesos de película delgada y la optimización y verificación de los parámetros de pulverización por centrifugación.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Qué aplicaciones de pulverización son adecuadas para los objetivos de anillo de SiO₂?
R1: Se utilizan principalmente para la deposición por pulverización catódica giratoria de películas delgadas ópticas, capas funcionales para dispositivos electrónicos y recubrimientos protectores.

P2: ¿Cuáles son las ventajas de los blancos anulares en comparación con los blancos planos?
R2: El diseño del blanco anular es adecuado para los sistemas de pulverización catódica giratoria, ya que mejora la uniformidad del espesor de la película y la utilización del material.

P3: ¿Son estables los blancos anulares de SiO₂ durante la deposición a alta temperatura?
R3: El material cerámico de alta pureza garantiza que el blanco mantenga la estabilidad estructural y de deposición en condiciones de alta temperatura.

P4: ¿El diseño del blanco anular afecta al rendimiento de la película?
R4: Una forma anular bien diseñada contribuye a una deposición uniforme, mejorando el espesor de la película y la consistencia de la composición.

Informes

Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)

Ficha técnica (TDS)

Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición

. ¿Por qué elegirnos?

Contamos con una amplia experiencia técnica y de suministro en el campo de los objetivos giratorios cerámicos, y podemos proporcionar objetivos anulares de dióxido de silicio estables y trazables para ayudar a los clientes a lograr una alta uniformidad y fiabilidad en la deposición de películas finas en sistemas de pulverización giratorios.