ULPMAT

Aleación de níquel Tanralum

Chemical Name:
Aleación de níquel Tanralum
Formula:
NiTa
Product No.:
287300
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
287300ST001 NiTa 99.9% Ø 101.6 mm x 2 mm Inquire
287301ST002 NiTa 99.9% Ø 101.6 mm x 2 mm Inquire
Product ID
287300ST001
Formula
NiTa
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 2 mm
Product ID
287301ST002
Formula
NiTa
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 2 mm

Visión general de los cátodos para sputtering de aleación de níquel y tanralum

Los cátodos para sputtering son cátodos para sputtering de aleación de níquel-tántalo de gran pureza ampliamente utilizados en la preparación de dispositivos semiconductores semiconductores, películas finas conductoras, materiales optoelectrónicos y películas finas para investigación científica.

Ofrecemos una gran variedad de tamaños, densos y uniformes, y cátodos para sputtering de NiTa químicamente estables para satisfacer los diferentes requisitos del proceso. Por favor, póngase en contacto con nosotros para obtener información técnica.

Productos destacados

Aleación de níquel-tántalo de gran pureza
Blanco denso y uniforme
Excelente conductividad
Buena estabilidad térmica
Fácil deposición de película fina
Consistencia fiable de los lotes

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de aleación de níquel y tanralum

Semiconductores Preparación de dispositivos: Adecuados para la deposición de películas finas semiconductoras como transistores y circuitos integrados, mejorando el rendimiento y la estabilidad de los dispositivos.
Películas finas conductoras: Utilizadas para la preparación de películas conductoras y recubrimientos funcionales, mejorando la conductividad y durabilidad de los dispositivos electrónicos.
Optoelectrónica Optoelectrónicos: Adecuadas para películas finas fotovoltaicas, fotodetectores y otros materiales optoelectrónicos, mejorando la eficiencia de la conversión fotoeléctrica.
Investigación científica y desarrollo de procesos: Adecuado para que las instituciones de investigación realicen pruebas de rendimiento de las películas finas de material NiTa y desarrollen nuevos procesos.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Se puede personalizar el tamaño y la forma de los cátodos para sputtering de NiTa?

R1: Sí, podemos suministrar cátodos de diferentes tamaños y formas según los requisitos del equipo de sputtering y del proceso.

P2: ¿Es estable el cátodo durante la deposición?

A2: Los cátodos de NiTa de alta pureza tienen una buena estabilidad térmica, lo que garantiza una deposición uniforme de la película.

P3: ¿Para qué tipos de deposición de película fina son adecuados los cátodos?

A3: Adecuados para la deposición de películas finas semiconductoras, películas conductoras y películas finas funcionales.

P4: ¿Cómo se garantiza la uniformidad de los lotes de cátodos?

A4: Mediante rigurosos procesos de producción y pruebas de calidad, garantizamos una composición y un rendimiento uniformes.

Informes

Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha técnica (TDS)
Ficha de datos de seguridad (FDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles previa solicitud

¿Por qué elegirnos?

Estamos especializados en I+D y el suministro de cátodos para sputtering de NiTa de gran pureza, haciendo hincapié en la densidad y uniformidad de los cátodos, la estabilidad química y la compatibilidad de los procesos, proporcionando un soporte material fiable para la deposición de dispositivos semiconductores, películas conductoras y películas finas científicas.

Fórmula molecular: NiTa
Aspecto: Brillo metálico, gris plateado
Estructura cristalina: Estructura cúbica centrada en el cuerpo

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

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