El fluoruro de indio (InF3) es un material de fluoruro de gran pureza utilizado para la deposición eficiente de películas finas. Se aplica ampliamente en las industrias de semiconductores, optoelectrónica y de películas finas. Este cátodo de fluoruro de indio presenta excelentes propiedades de pulverización catódica, lo que permite la deposición de películas finas de fluoruro de indio uniformes y densas. Desempeña un papel clave en aplicaciones como la tecnología de visualización, la comunicación por fibra óptica y los dispositivos electrónicos que requieren revestimientos de alto rendimiento.
Alta eficiencia de sputtering: El cátodo para sputtering de fluoruro de indio (InF3) tiene excelentes propiedades de sputtering, permitiendo la deposición de películas uniformes y densas. Es ideal para aplicaciones de películas finas de fluoruro de indio en fabricación de alta precisión.
Garantía de alta pureza: Nuestros cátodos de fluoruro de indio se fabrican con un 99,99% de material puro, lo que garantiza una excelente calidad de la película fina, defectos mínimos y una alta consistencia en la aplicación.
Versatilidad en todos los sectores: El cátodo para sputtering InF3 puede ser utilizado en varias industrias, incluyendo la optoelectrónica, la tecnología de semiconductores, la comunicación por fibra óptica y la tecnología de visualización.
Opciones de personalización: Ofrecemos la posibilidad de personalizar el tamaño de las partículas, la pureza y el método de sputtering, lo que permite adaptar el cátodo de fluoruro de indio a aplicaciones específicas.
Estabilidad a largo plazo: Este cátodo para sputtering de fluoruro de indio garantiza una estabilidad de rendimiento a largo plazo en aplicaciones de alta tecnología, por lo que es ideal para dispositivos optoelectrónicos avanzados y semiconductores.
Aplicaciones de los cátodos para sputtering: El cátodo para sputtering de fluoruro de indio (InF3) se utiliza principalmente en procesos de deposición de películas finas, como en la producción de películas finas de fluoruro de indio para pantallas, sensores y sistemas de comunicación por fibra óptica. El cátodo proporciona una deposición de película uniforme y de alta calidad con excelentes propiedades ópticas y eléctricas.
Semiconductores De semiconductores: Los cátodos para sputtering InF3 se utilizan en la fabricación de semiconductores para la deposición de películas de fluoruro de indio de alto rendimiento, adecuadas para componentes electrónicos que requieren revestimientos de flúor.
Dispositivos optoelectrónicos: Este cátodo para sputtering de fluoruro de indio es crucial en la fabricación de dispositivos optoelectrónicos como LEDs, diodos láser, fotodetectores y moduladores, especialmente en los rangos de luz UV y visible.
Óptica Comunicación por fibra óptica: Los cátodos para sputtering de fluoruro de indio se utilizan en sistemas de comunicación por fibra óptica para la modulación óptica y la conversión fotoeléctrica, lo que permite la transmisión de datos a alta velocidad.
Recubrimientos de alta precisión: Este cátodo de InF3 se utiliza en revestimientos de alta eficacia para pantallas, sensores y dispositivos ópticos de alta tecnología, proporcionando capas protectoras y funcionales para diversas aplicaciones industriales.
Garantía de alta pureza: Proporcionamos cátodos para sputtering de fluoruro de indio con una pureza del 99,99%, garantizando una deposición de película fina consistente y de alta calidad y un excelente rendimiento del material.
Servicios personalizados: Ofrecemos soluciones a medida para diferentes aplicaciones de cátodos para sputtering de fluoruro de indio, con tamaños de partícula, niveles de pureza y métodos de sputtering personalizables para satisfacer los requisitos específicos del cliente.
Entrega eficaz: Garantizamos la entrega a tiempo y damos soporte a pedidos urgentes, asegurando que los clientes cumplan sus programas de producción.
Soporte técnico experto: Nuestros técnicos
Cada lote de productos se suministra con un Certificado de análisis (COA), una Ficha técnica (TDS), una Ficha de datos de seguridad (MSDS ) y un informe de identificación del envío. También disponemos de informes de pruebas de terceros previa solicitud.
Fórmula química: InF₃
Peso molecular: 209,8 g/mol
Pureza: 99,9% (personalizable)
Aspecto: Polvo o blanco entre blanco y blanquecino
Densidad: ~6,3 g/cm³
Punto de fusión: ~ 730°C
Punto de ebullición: Sublima a ~ 1300°C
Estructura cristalina: Cúbica (tipo NaCl)
Método de pulverización catódica: Sputtering DC (personalizable)
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
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