Los cátodos para sputtering son materiales cerámicos de alto rendimiento que presentan una excelente conductividad térmica, un elevado aislamiento eléctrico y una gran estabilidad química. Estas propiedades los convierten en la elección ideal para la deposición de capas finas en aplicaciones de semiconductores, optoelectrónica y capas dieléctricas.
Nuestros cátodos de nitruro de aluminio para sputtering se fabrican con una alta pureza y una microestructura refinada para garantizar una excelente uniformidad de la película, una fuerte adherencia y tasas de deposición estables. Ya sea para I+D o para producción industrial a gran escala, ofrecemos una calidad fiable y un soporte técnico profesional para ayudarle a cumplir sus requisitos específicos de rendimiento.
Cátodos para sputtering de nitruro de aluminio de alta pureza: ≥99,9%
Bajo contenido en oxígeno e impurezas para una calidad de película superior
Disponibles en varias formas (disco, rectangular) y dimensiones
Estructura de grano ajustada y composición homogénea para un sputtering uniforme
Dispositivos semiconductores: Capas aislantes, capas tampón y películas de pasivación
Componentes optoelectrónicos: Láminas finas para LED, diodos láser y fotodetectores
Recubrimientos de gestión térmica: Películas finas sobre sustratos que requieren una disipación eficaz del calor
Dispositivos de ondas acústicas superficiales (SAW): Capas dieléctricas de alto rendimiento
Recubrimientos protectores: En entornos químicos o térmicos agresivos que requieren películas cerámicas estables
Cada lote de cátodos para sputtering de AlN se entrega con un Certificado de Análisis (COA) y una Hoja de Datos de Seguridad del Material (MSDS). Los análisis estándar incluyen pureza química, densidad, composición de fase (XRD) e inspección de microestructura (SEM). Si lo desea, puede solicitar pruebas adicionales de terceros e informes de conformidad con RoHS/REACH.
Calidad constante: Control estricto del proceso para obtener un tamaño de grano y una densidad uniformes
Personalización: Tamaño, forma y servicio de unión adaptados a su sistema
Experiencia técnica: Asistencia para parámetros de sputtering, propiedades de la película y resolución de problemas
Entrega global: Envíos internacionales seguros y conformes con la documentación completa
Fórmula química: AlN
Aspecto: Blanco a gris claro
Densidad: ~3,255 g/cm³
Punto de fusión: ~2.500 °C
Conductividad térmica: ≥170 W/m-K (teórica)
Resistividad eléctrica: >10¹³ Ω-cm
Solubilidad: Se hidroliza lentamente en agua y ácidos
Estructura cristalina: Hexagonal (Wurtzita)
Estabilidad: Sensible a la humedad; estable en atmósferas inertes
No clasificado como peligroso
Embalaje interior: Bolsa sellada al vacío para proteger contra la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cartón o caja de madera, según tamaño y peso.
Objetivos frágiles: Se utiliza un embalaje especial de protección para garantizar un transporte seguro.
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