Strontium-Aluminiumoxid
-Sputter-Targets sind strukturell stabile, gleichmäßig abgeschiedene Multi-Element-Oxid-Targets, die sich für die Herstellung von funktionalen Dünnschichten, optischen Beschichtungen und elektronischen Materialien eignen.
Wir bieten Strontium-Aluminiumoxid-Sputter-Targets in verschiedenen Reinheitsgraden, Dichten, Größen und Strukturtypen an. Wir können Kunden auch bei der Bestätigung der Anforderungen an die Schichtbildung, der Auswahl geeigneter Target-Typen und der Beratung zu Versand, Verpackung, Reinigung und Anwendungsfehlerbehebung unterstützen. Bitte kontaktieren Sie uns
jederzeit für ein Angebot.
Hochdichtes Pressformen
Gute Schichtgleichmäßigkeit
Stabile Ionendichte
Geringer Verunreinigungsgehalt
Geeignet für verschiedene Sputter-Systeme
Anpassbar an die Größe der Anlage
Unterstützt die Target-Bonding
Hohe mechanische Festigkeit, weniger anfällig für Risse
Stabile Filmhaftung
Verwendung bei der Herstellung optischer Beschichtungen zur Verbesserung der Filmstabilität und Lichtdurchlässigkeit.
Anwendung bei funktionalen Keramik-Dünnschichten zur strukturellen Verstärkung und Materialmodifikation.
Verwendung als Target-Materialquelle für Verbundoxid-Dünnschichten bei der Herstellung elektronischer Bauteile.
Geeignet für Forschungsanwendungen zur Herstellung von Mehrkomponenten-Oxid-Dünnschichten mit besonderen Eigenschaften.
F1: Weist das Strontium-Aluminiumoxid-Sputtertarget eine ungleichmäßige Kantenabtragung auf?
A1: Das Target wird in einem hochdichten Verfahren hergestellt, wodurch Unterschiede im Kantenverschleiß reduziert werden. Die Prozessparameter müssen jedoch weiterhin entsprechend der Anlagenleistung und der Magnetfeldverteilung angepasst werden, um einen gleichmäßigeren Sputterzustand zu erreichen.
F2: Muss das Target während des Transports stoßfest behandelt werden?
A2: Ja, wir verwenden eine zweilagige Schutzstruktur aus Schaumstoffpolsterung und Vakuumverpackung, um sicherzustellen, dass das Target während des Langstreckentransports nicht zerbricht oder absplittert.
F3: Welche Faktoren beeinflussen hauptsächlich die Lebensdauer des Targets?
A3: Leistungseinstellungen, Vakuumumgebung, Kühleffekt und Targetdicke beeinflussen die Lebensdauer. Je nach Prozessdesign kann eine geeignetere Targetgröße ausgewählt werden.
F4: Kann dieses Target für gepulstes Gleichstrom- oder HF-Sputtern verwendet werden?
A4: Ja, dieses Material eignet sich für verschiedene Sputterverfahren. Je nach Gerätetyp können wir entsprechende Targetstrukturen und Einbaumaße liefern.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Drittanbietern auf Anfrage erhältlich
Wir verfügen über stabile Prozesskontrollfähigkeiten bei der Herstellung von Multielement-Oxid-Targets und gewährleisten ein hohes Maß an Konsistenz hinsichtlich der Dichte, der strukturellen Gleichmäßigkeit und der Dünnschichtabscheidungsleistung unserer Strontium-Aluminiumoxid-Targets. In Kombination mit flexibler Anpassungsunterstützung, strengen Qualitätsprüfungen, professionellen Verpackungsmethoden und stabiler internationaler Logistik können wir zuverlässige und konsistente Target-Lieferlösungen für Forschungs- und Industriekunden anbieten und ihnen dabei helfen, qualitativ hochwertigere Dünnschichtergebnisse zu erzielen.
Chemische Formel: SrAl₂O₄
Molekulargewicht: 183,95 g/mol
Erscheinungsbild: Weißes bis hellgrünes keramisches Sputtertarget
Dichte: ~3,56 g/cm³
Schmelzpunkt: ~1.930 °C (ca.)
Kristallstruktur: Monoklin (β-Phase) oder Hexagonal (α-Phase)
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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