Sputtertargets aus
Kupferselenid
sind hochreine Funktionsmaterialtargets, die für die Dünnschichtabscheidung und die Herstellung optoelektronischer Bauelemente verwendet werden und eine gleichmäßige Schichtdicke sowie eine stabile Leistung gewährleisten.
Wir können hochreine Sputtertargets aus Kupferselenid in verschiedenen Spezifikationen und Größen entsprechend den Anforderungen der Kunden an ihre Anlagen und Prozesse liefern. Kontaktieren Sie uns
für maßgeschneiderte Lösungen.
Hohe Reinheit
Hohe Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung
Stabile Filmabscheidung
Geringer Verunreinigungsgehalt
Kompatibel mit verschiedenen Sputteranlagen
Zuverlässige Leitfähigkeit und optische Eigenschaften
Unterstützt kundenspezifische
runde, quadratische und unregelmäßige Formen und
Herstellung
optoelektronischer
Dünnschichten: Wird für die Abscheidung von
Solarzellen und photoleitenden Dünnschichten verwendet und gewährleistet eine gleichmäßige Schichtdicke und stabile optoelektronische Leistung. Herstellung von
Halbleiterbauelementen: Als p-Typ-Halbleitermaterial-Target kann es in der Forschung und Entwicklung neuer elektronischer Bauelemente und Funktionsmaterialien eingesetzt werden und gewährleistet eine zuverlässige Bauelementleistung.
Funktionsbeschichtungen und industrielle Anwendungen: Wird für die Abscheidung korrosionsbeständiger, leitfähiger oder spezieller Funktionsbeschichtungen verwendet und verbessert die Lebensdauer und Leistung von Industriematerialien.
F1: Ist das Sputtern von Kupferselenid für Gleichstrom- oder Hochfrequenz-Sputtern geeignet?
A1: Kupferselenid ist ein Halbleitermaterial, und um gleichmäßige und stabile Schichten zu gewährleisten, wird im Allgemeinen das HF-Sputtern empfohlen.
F2: Erfordert das Sputtertarget eine spezielle Oberflächenbehandlung?
A2: Die Sputtertargets werden im Werk poliert und desoxidiert und können direkt verwendet werden. Bei Bedarf kann eine Vorbehandlung entsprechend den Prozessanforderungen durchgeführt werden.
F3: Ist das Kupferselenid-Sputtertarget zerbrechlich?
A3: Im Vergleich zu Metalltargets sind Kupferselenid-Sputtertargets spröder. Bei der Handhabung und Installation sollte darauf geachtet werden, dass keine Beschädigungen durch Stöße entstehen.
F4: Können Sie die Größe und Form des Sputtertargets anpassen?
A4: Ja, wir bieten runde, quadratische und unregelmäßig geformte kundenspezifische Sputtertargets an, um den Anforderungen verschiedener Sputteranlagen und -prozesse gerecht zu werden.
Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir konzentrieren uns auf die Herstellung und Lieferung von hochreinen Sputtertargets aus Funktionsmaterialien. Von der Auswahl der Rohstoffe bis zur Chargenkontrolle kontrollieren wir den Prozess streng, um sicherzustellen, dass Selenid-Kupfer-Targets eine stabile Leistung in der wissenschaftlichen Forschung, der Industrie und der Dünnschichtvorbereitung von optoelektronischen Geräten aufweisen und unseren Kunden zuverlässige und rückverfolgbare hochwertige Materialien bieten.
Chemische Formel: Cu₂Se
Molekulargewicht: 159,16 g/mol
Erscheinungsbild: Schwarzes bis grauschwarzes, dichtes Zielmaterial
Dichte: 6,02 g/cm³
Schmelzpunkt: 1.070 °C
Kristallstruktur: Kubisch
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte