Kalziumfluorid

Übersicht über Calciumfluorid-Sputter-Targets

Calciumfluorid
-Sputter-Targets sind hochreine Keramik-Targets mit hoher Dichte, die in der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) zum Einsatz kommen. Sie werden in erster Linie zur Abscheidung von Calciumfluorid-Schichten mit außergewöhnlichen optischen und chemischen Eigenschaften auf Substraten verwendet und dienen als wichtiges Kernmaterial für die Herstellung von optischen
Komponenten für den Ultraviolettbereich, funktionellen Halbleiterschichten und Spezialbeschichtungen.

Wir sind auf die Lieferung von Calciumfluorid-Sputter-Targets in hochreiner bis ultrahochreiner Qualität spezialisiert. Wir bieten kundenspezifische Anpassungen
in verschiedenen Größen und Formen sowie hochfeste Metallträgerplatten-Bonding
-Dienstleistungen. Für kundenspezifische Lösungen oder Leistungsparameter wenden Sie sich
bitte umgehend an
unser technisches Team.

Produkt-Highlights

Ultrahohe Reinheit
Außergewöhnliche Dichte und mikrostrukturelle Homogenität
Extrem geringe UV-Lichtabsorption
Präzisionsbearbeitung mit hoher Oberflächengüte
Hervorragende Temperaturwechselbeständigkeit und Sputterstabilität

Anwendungen von Calciumfluorid-Sputter-Targets

Hochleistungsoptische Beschichtungen:
Wird zur Herstellung von Antireflexbeschichtungen, Schutzfilmen und hochreflektierenden Beschichtungen im ultravioletten bis infraroten Spektrum verwendet. Weit verbreitet in optischen Komponenten für Hochenergielasersysteme, astronomische Beobachtungsinstrumente und fortschrittliche Lithografiegeräte.

Halbleiter und Mikroelektronik:
Dient als Isolier- oder Passivierungsschichtmaterial in bestimmten Halbleiterprozessen. Seine Dünnschichten weisen hervorragende dielektrische Eigenschaften und chemische Stabilität auf und verbessern die Zuverlässigkeit der Geräte.

Laserkomponenten und -fenster:
Wird für die direkte Abscheidung von Calciumfluoridschichten oder die Herstellung von Mehrschichtstrukturen verwendet, um Laserfenster, Linsen und nichtlineare optische Geräte mit hoher Schadensschwelle herzustellen.

Forschung und spezialisierte Funktionsbeschichtungen:
Dient als grundlegendes Zielmaterial für die Erforschung und Entwicklung von Spitzenbereichen wie neuartigen Materialien mit niedrigem Brechungsindex, ultra-harten Beschichtungen und strahlungsbeständigen Beschichtungen.

Häufig gestellte Fragen

F1: Wie stark beeinflusst die Reinheit des Targets die Leistung der endgültigen abgeschiedenen Schicht?
A1: Die Reinheit ist einer der entscheidenden Faktoren. Übermäßige Metallverunreinigungen und Sauerstoffgehalt können die Absorptionsverluste im ultravioletten Bereich erheblich erhöhen und zu Defekten führen, die die Laserschadensschwelle und die Langzeitstabilität der Schicht beeinträchtigen.

F2: Warum erfordert das Calciumfluorid-Target manchmal reaktives Sputtern während des Prozesses?
A2: Um das stöchiometrische Verhältnis (Kalzium-Fluor-Verhältnis) des Films präzise zu steuern und einen möglichen Fluorverlust auszugleichen, wird in der Regel eine kleine Menge fluorhaltiges reaktives Gas (z. B. CF₄) in das Sputtergas (z. B. Argon) eingeleitet, um Calciumfluorid-Filme mit optimalen optischen Eigenschaften zu erzielen.

F3: Ist dieses Targetmaterial leitfähig? Wie wird es in Sputteranlagen installiert und verwendet?
A3: Calciumfluorid ist ein isolierendes Material und leitet keinen Strom. Daher muss beim Magnetron-Sputtern eine HF-Stromversorgung verwendet werden, und die Trägerplatte muss fest verbunden sein, um eine effektive Kühlung zu gewährleisten. Achten Sie bei der Installation darauf, dass die Kontaktfläche zwischen dem Target und der Gerätebasis sauber und eben ist, um eine effiziente Wärmeübertragung zu gewährleisten.

F4: Welche Farbe weisen mit diesem Target abgeschiedene Schichten in der Regel auf?
A4: Hochwertige Calciumfluorid-Filme sind im sichtbaren Spektrum nahezu vollständig transparent und weisen keine erkennbare Farbe auf. Wenn der Film blassgelb erscheint oder andere Farbtöne aufweist, kann dies auf Abweichungen in der Stöchiometrie oder Verunreinigungen hinweisen, die eine Optimierung der Prozessparameter erforderlich machen.

Bericht

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die Forschung und Entwicklung sowie die Herstellung von fortschrittlichen optischen
Beschichtungen und Keramik-Targets für Halbleiter
spezialisiert und verfügen über fundierte Fachkenntnisse hinsichtlich der Herausforderungen und Prozessanforderungen bei der Herstellung hochreiner Fluoridmaterialien. Durch proprietäre Reinigungs- und Heißpress-Sintertechnologien erreichen wir eine außergewöhnliche Balance zwischen Reinheit, Dichte und Mikrostruktur unserer Targets.