ULPMAT

Indium-Zinn-Oxid (ITO)

Chemical Name:
Indium-Zinn-Oxid (ITO)
Formula:
In2O3-SnO2
Product No.:
4908500800
CAS No.:
50926-11-9
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
4908500800ST001 In2O3-SnO2 (90/10 wt%) 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
4908500800ST002 In2O3-SnO2 (95/5 wt%) 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
4908500800ST003 In2O3-SnO2 (90/10 wt%) 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
4908500800ST004 In2O3-SnO2 (95/5 wt%) 99.99% Ø 101.6 mm x 4 mm Inquire
4908500800ST005 In2O3-SnO2 (90/10 wt%) 99.99% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
4908500800ST006 In2O3-SnO2 (90/10 wt%) 99.99% Ø 152.4 mm x 3.175 mm Inquire
4908500800ST007 In2O3-SnO2 (90/10 wt%) 99.99% Ø 152.4 mm x 6.35 mm Inquire
4908500800ST008 In2O3-SnO2 (90/10 wt%) 99.99% Ø 203.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
4908500800ST001
Formula
In2O3-SnO2 (90/10 wt%)
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
4908500800ST002
Formula
In2O3-SnO2 (95/5 wt%)
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
4908500800ST003
Formula
In2O3-SnO2 (90/10 wt%)
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
4908500800ST004
Formula
In2O3-SnO2 (95/5 wt%)
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 4 mm
Product ID
4908500800ST005
Formula
In2O3-SnO2 (90/10 wt%)
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
4908500800ST006
Formula
In2O3-SnO2 (90/10 wt%)
Purity
99.99%
Dimension
Ø 152.4 mm x 3.175 mm
Product ID
4908500800ST007
Formula
In2O3-SnO2 (90/10 wt%)
Purity
99.99%
Dimension
Ø 152.4 mm x 6.35 mm
Product ID
4908500800ST008
Formula
In2O3-SnO2 (90/10 wt%)
Purity
99.99%
Dimension
Ø 203.2 mm x 3.175 mm

Indium-Zinn-Oxid Sputtering Target Übersicht

Indium-Zinn-Oxid sputtertarget (In2O3-SnO2) ist ein hochreines, transparentes, leitfähiges Oxid (TCO), das in der Dünnschichtelektronik, in optoelektronischen Geräten und in der Halbleitertechnik weit verbreitet ist. Mit ihrer ausgezeichneten elektrischen Leitfähigkeit, optischen Transparenz und gleichmäßigen Filmbildung sind ITO-Sputtertargets für die Herstellung von modernen Displays, Touchpanels, Solarzellen und anderen Dünnschichtgeräten unerlässlich. Unsere Targets gewährleisten eine Reinheit von 99,99 % (4N), eine dichte Struktur und eine stabile Leistung für industrielle und Forschungsanwendungen.

Wir liefern hochwertige ITO-Sputtertargets für Hersteller und Forschungseinrichtungen. Kontaktieren Sie uns für den besten Preis und technische Unterstützung.

Produkt-Highlights von Indium-Zinn-Oxid Sputtering Target

Hervorragende Reinheit: 99,99% (4N) Reinheit erfüllen die strengen Anforderungen für Dünnschicht- und TCO-Anwendungen.
Hohe Leistung: Ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit und optische Transparenz für optoelektronische Geräte.
Stabiles Material: Die dichte Struktur, der geringe Gehalt an Verunreinigungen und die einheitliche Zusammensetzung gewährleisten reproduzierbare Dünnschicht-Ergebnisse.
Flexible Größen: Erhältlich in verschiedenen Abmessungen für unterschiedliche Abscheidungssysteme.

Anwendungen von hochwertigen Indium-Zinn-Oxid-Sputter-Targets

Dünnschichtelektronik: Anwendung in transparenten Elektroden, Dünnschichttransistoren (TFTs) und OLED-Displays.
Optoelektronische Geräte: Einsatz in Touchpanels, Photodetektoren, Infrarotsensoren und flexibler Elektronik.
Solarzellen: Geeignet für transparente Elektrodenschichten in modernen CIGS- und Perowskit-Solarzellen.
Forschung und Entwicklung: Weit verbreitet in Labors für Materialwissenschaft und Geräteforschung.
Energiegeräte: Angewandt in transparenten leitfähigen Filmen für Anwendungen zur Energieumwandlung und -speicherung.

Warum uns wählen?

Branchenkenntnisse: Spezialisiert auf hochreine Sputtertargets für TCO- und Dünnschichttechnologien.
Maßgeschneiderte Lösungen: Flexibel in Bezug auf Targetzusammensetzung, Abmessungen und Auswahl der Trägerplatte.
Zuverlässige Qualität: Strenge Kontrolle von Verunreinigungen, dichte Struktur und einheitliche Zusammensetzung gewährleisten eine stabile Leistung.
Globale Lieferung: Schneller, sicherer Versand weltweit mit Schutzverpackung.
Technische Unterstützung: Ein professionelles Team bietet umfassende technische Dokumentation und Beratung.

FAQs

F1. Wie hoch ist der Reinheitsgrad Ihrer In2O3-SnO2-Sputtertargets?
A1. Unsere ITO-Targets haben eine Standardreinheit von 99,99 % (4N) und gewährleisten zuverlässige Ergebnisse für fortschrittliche Dünnschicht- und optoelektronische Anwendungen.

F2. Kann das In:Sn-Verhältnis oder die Targetgröße individuell angepasst werden?
A2. Ja, wir bieten anpassbare In:Sn-Verhältnisse und Targetabmessungen entsprechend den Anforderungen Ihres Beschichtungssystems.

F3. Wie sollten In2O3-SnO2-Targets gelagert und gehandhabt werden?
A3. Lagern Sie sie in einer kühlen, trockenen Umgebung in versiegelten Behältern. Vermeiden Sie Feuchtigkeit, Staub und Verunreinigungen während der Handhabung.

F4. In welchen Branchen werden In2O3-SnO2-Targets üblicherweise verwendet?
A4. Weit verbreitet in der Dünnschichtelektronik, bei OLED-Displays, Touchpanels, Solarzellen, in der Optoelektronik und in Forschungslabors.

F5. Sind technische Berichte für Industrie- oder Forschungszwecke verfügbar?
A5. Ja, jede Charge wird mit COA-, TDS-, MSDS- und ICP-MS-Verunreinigungsberichten geliefert. Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich.

Berichte

Jede Produktcharge wird geliefert mit:
Zertifikat der Analyse (COA)
Technisches Datenblatt (TDS)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich, um Industrie- und Forschungsstandards zu erfüllen.

Molekulare Formel: In₂O₃-SnO₂
Äußeres Erscheinungsbild: Off-white oder silbergraue dichte Scheibe
Schmelzpunkt: ~1900°C
Siedepunkt: ~2000°C
Kristallstruktur: Kubisch (In₂O₃ als Hauptphase)

Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.

SKU 4908500800ST Kategorie Marke:

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