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Yttrium-Nickel-Aluminium-Legierung

Chemical Name:
Yttrium-Nickel-Aluminium-Legierung
Formula:
YNiAl
Product No.:
39281300
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
39281300ST001 YNiAl (60/20/20at%) 99.9% (REO) Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
39281300ST001
Formula
YNiAl (60/20/20at%)
Purity
99.9% (REO)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Sputter-Targets aus Yttrium-Nickel-Aluminium-Legierung – Übersicht

Sputter-Targets
aus Yttrium-Nickel-Aluminium-Legierung
sind hochreine Targets aus Yttrium-Nickel-Aluminium-Legierung, die häufig bei der Herstellung von funktionalen Dünnschichten, magnetischen Materialien und elektronischen Geräten verwendet werden.

Wir bieten Yttrium-Nickel-Aluminium-Legierungen in verschiedenen Spezifikationen und Reinheitsgraden an, um den Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung und der industriellen Dünnschichtabscheidung gerecht zu werden. Kontaktieren Sie uns
für maßgeschneiderte Lösungen.

Produkt-Highlights

Hohe Reinheit, geringer Gehalt an Verunreinigungen
Gleichmäßige und dichte Struktur, stabile Sputterleistung
Hervorragende Legierungsgleichmäßigkeit
Starke thermische Stabilität
Präzise Kontrolle der chemischen Zusammensetzung
Anpassbare Größen und Formen
Freie Wahl der Bonding- und Trägerplatten
Langfristige Lieferung, zuverlässige Qualität

Anwendungen von Sputtertargets aus Yttrium-Nickel-Aluminium-Legierung

Herstellung funktionaler Dünnschichten: Verwendung für die Abscheidung elektronischer und optischer Dünnschichten, um die Gleichmäßigkeit der Schichten zu gewährleisten.
Magnetische Materialien: Verwendung in magnetischen Dünnschichten und Magnetsensoren zur Verbesserung der Leistungsstabilität.
Elektronische Geräte: Verbessert die Zuverlässigkeit und Leitfähigkeit bei der Herstellung mikroelektronischer Geräte.
Materialien für die wissenschaftliche Forschung: Bereitstellung hochreiner Sputtertargets für die Forschung an Dünnschichtmaterialien.

Häufig gestellte Fragen

F1: Wie hoch ist der Reinheitsgrad von YNiAl-Sputtertargets?
A1: Unsere Targets erreichen eine Reinheit von über 99,9 % und gewährleisten eine stabile Leistung während des Dünnschichtabscheidungsprozesses.

F2: Welche Formen und Größen von Targets können individuell angepasst werden?
A2: Wir können runde Targets, quadratische Targets und kundenspezifische Größen und Formen anbieten, um sie an verschiedene Sputteranlagen anzupassen.

F3: Sind Sputtertargets bei der Abscheidung bei hohen Temperaturen stabil?
A3: Die Targets sind dicht und gleichmäßig, widerstandsfähig gegen Sinter- und Abscheidungsprozesse bei hohen Temperaturen und bieten eine zuverlässige Leistung.

F4: Welche Anforderungen gelten für die Verpackung und den Transport der Targets?
A4: Wir verwenden feuchtigkeits- und stoßfeste Verpackungen, um sicherzustellen, dass die Targets unbeschädigt bleiben und um den Transport und die Lagerung zu erleichtern.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die Herstellung von hochreinen YNiAl-Sputter-Targets spezialisiert und bieten strenge Qualitätskontrollen und maßgeschneiderte Dienstleistungen, um eine stabile und zuverlässige Target-Leistung zu gewährleisten, die den Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung und der industriellen Dünnschichtabscheidung gerecht wird.

Chemische Formel: YNiAl
Molekulargewicht: 152,43 g/mol
Erscheinungsbild: Silber-graues metallisches Pulver
Dichte: ~6,8 g/cm³
Schmelzpunkt: ~1.200 °C (ca.)
Kristallstruktur: Hexagonal (MgZn₂-Typ Laves-Phase)

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

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