| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 282300ST001 | NiV (95/5at%) | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 282300ST002 | NiV (93:7 wt%) | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 282300ST003 | NiV (93:7 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 282300ST004 | NiV (93:7 wt%) | 99.95% | Ø 203.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 282300ST005 | NiV (95/5at%) | 99.95% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 282300ST006 | NiV (93:7 wt%) | 99.95% | Ø 334 mm x 7 mm | Inquire |
| 282300ST007 | NiV (95/5at%) | 99.95% | 488 mm x 87.5 mm x 5mm | Inquire |
Nickel-Vanadium-Legierung sputtertargets sind Targets aus Nickel-Vanadium-Legierungen, die in erster Linie für die Herstellung von dünnen Schichten aus Legierungen mit guter Stabilität und funktioneller Kontrollierbarkeit verwendet werden.
Wir können NiV-Sputtertargets mit stabilen Zusammensetzungsverhältnissen und hoher Dichte anbieten und unterstützen kundenspezifische spezifikationen und technische Zusammenarbeit. Bitte kontaktieren Sie uns für Lösungen.
Hohe Zieldichte
Gleichmäßige Verteilung der Zusammensetzung
Stabiler Sputterprozess
Gute Filmkonsistenz
Kundenspezifische Verarbeitung möglich
Kundenspezifische verklebung und Backplane-Unterstützung unterstützt
Abscheidung von Dünnschichten aus funktionellen Legierungen: NiV-Sputtertargets eignen sich für Magnetron-Sputterprozesse und ermöglichen die Abscheidung von Dünnschichten aus Nickel-Vanadium-Legierungen mit kontrollierbarer Zusammensetzung für die Forschung an funktionellen Materialien.
Mikroelektronik und Materialforschung für Bauelemente: In der mikroelektronischen Forschung kann dieses Target verwendet werden, um die Leistung von dünnen Legierungsschichten in Bezug auf Leitfähigkeit und strukturelle Stabilität zu untersuchen.
Oberflächentechnik und modifizierte Beschichtungen: Durch Sputtern hergestellte Nickel-Vanadium-Dünnschichten können für die Forschung zur Oberflächenmodifizierung verwendet werden, um die Gesamtleistung von Materialien unter bestimmten Bedingungen zu verbessern.
Forschung und Laborentwicklung: Geeignet für Universitäten und Forschungseinrichtungen für grundlegende Experimente und die Optimierung von Prozessparametern neuartiger Legierungs-Dünnschichtsysteme.
Q1: Für welchen Sputterprozess ist das NiV-Sputtertarget geeignet?
A1: In erster Linie für DC- oder Magnetron-Sputterprozesse; die spezifische Methode kann je nach Anlagenbedingungen angepasst werden.
Q2: Kann das Verhältnis der Targetzusammensetzung angepasst werden?
A2: Auf Anfrage können verschiedene Nickel-Vanadium-Verhältnisse für vergleichende Experimente oder spezifische Studien zur Dünnschichtleistung bereitgestellt werden.
F3: Ist das NiV-Target während des Sputterns stabil?
A3: Bei angemessenen Prozessparametern wird das Target gleichmäßig verbraucht, was für die Herstellung gleichmäßiger dünner Schichten von Vorteil ist.
F4: Unterstützen Sie kleine Targets oder solche für die Forschung?
A4: Wir unterstützen Targets in Forschungsqualität, kleine Targets und nicht standardisierte kundenspezifische Targets, die für den Einsatz im Labor geeignet sind.
Jede Charge wird geliefert mit:
Zertifikat der Analyse (COA)
Technisches Datenblatt (TDS)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Dritten auf Anfrage erhältlich
Wir verfügen über eine ausgereifte Erfahrung in der Verarbeitung und Qualitätskontrolle von Legierungs-Sputter-Targets und achten auf die Stabilität und die Anpassungsfähigkeit der Targets an die jeweilige Anwendung. Dadurch können wir die langfristige Nutzung und experimentelle Zuverlässigkeit von NiV-Sputter-Targets kontinuierlich unterstützen.
Molekulare Formel: NiV
Erscheinungsbild: Metallisch glänzend, meist silbergrau oder schwarz
Kristallstruktur: Kubische Kristallstruktur
Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.
Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
