| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 282300ST001 | NiV (95/5at%) | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 282300ST002 | NiV (93:7 wt%) | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 282300ST003 | NiV (93:7 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 282300ST004 | NiV (93:7 wt%) | 99.95% | Ø 203.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 282300ST005 | NiV (95/5at%) | 99.95% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 282300ST006 | NiV (93:7 wt%) | 99.95% | Ø 334 mm x 7 mm | Inquire |
| 282300ST007 | NiV (95/5at%) | 99.95% | 488 mm x 87.5 mm x 5mm | Inquire |
니켈 바나듐 합금 스퍼터링 타겟은 주로 안정성과 기능 제어성이 우수한 합금 박막을 제조하는 데 사용되는 니켈-바나듐 합금 타겟입니다.
당사는 안정적인 조성 비율과 고밀도의 NiV 스퍼터링 타겟을 제공할 수 있으며, 다음을 지원합니다 맞춤형 사양 및 기술 협업을 지원합니다. 제발 문의하세요 에 문의하세요.
높은 표적 밀도
균일한 조성 분포
안정적인 스퍼터링 공정
우수한 필름 일관성
맞춤형 처리 지원
맞춤 본딩 및 백플레인 지원 지원
기능성 합금 박막 증착: NiV 스퍼터링 타겟은 마그네트론 스퍼터링 공정에 적합하여 기능성 재료 연구를 위해 조성을 제어할 수 있는 니켈-바나듐 합금 박막을 증착할 수 있습니다.
마이크로 일렉트로닉스 및 소자 재료 연구: 마이크로일렉트로닉스 관련 연구에서 전도성 및 구조적 안정성 측면에서 합금 박막의 성능을 탐구하는 데 사용할 수 있습니다.
표면 공학 및 개질 코팅: 스퍼터링으로 제조된 니켈-바나듐 박막은 특정 환경에서 재료의 전반적인 성능을 개선하기 위한 표면 개질 연구에 사용될 수 있습니다.
연구 및 실험실 개발: 새로운 합금 박막 시스템의 기초 실험 및 공정 파라미터 최적화를 위한 대학 및 연구 기관에 적합합니다.
Q1: NiV 스퍼터링 타겟은 어떤 스퍼터링 공정에 적합합니까?
A1: 주로 DC 또는 마그네트론 스퍼터링 공정에 사용되며, 장비 조건에 따라 구체적인 방법을 조정할 수 있습니다.
Q2: 타겟 조성 비율을 조정할 수 있나요?
A2: 비교 실험 또는 특정 박막 성능 연구를 위해 요청 시 다양한 니켈-바나듐 비율을 제공할 수 있습니다.
Q3: 스퍼터링 중에 NiV 타겟이 안정적입니까?
A3: 합리적인 공정 파라미터 하에서 타겟은 균일하게 소비되므로 일관된 박막을 얻는 데 유리합니다.
Q4: 소형 또는 연구용 타겟을 지원하나요?
A4: 실험실용으로 적합한 연구용, 소형 및 비표준 맞춤형 타겟을 지원합니다.
각 배치에는 다음과 같은 보고서가 제공됩니다:
분석 인증서(COA)
기술 데이터 시트(TDS)
물질안전보건자료(MSDS)
요청 시 타사 테스트 보고서 제공
우리는 합금 스퍼터링 타겟 분야에서 성숙한 가공 및 품질 관리 경험을 보유하고 있으며 타겟의 안정성과 응용 적응성에주의를 기울여 NiV 스퍼터링 타겟의 장기 사용 및 실험 신뢰성에 대한 지속적인 지원을 제공 할 수 있습니다.
분자 공식: NiV
외관: 금속 광택, 보통 은회색 또는 검은색
결정 구조: 입방정 결정 구조
내부 포장: 오염과 습기를 방지하기 위해 진공 밀봉된 백 및 박스 포장.
외부 포장: 크기와 무게에 따라 선택된 상자 또는 나무 상자.
