Lithium-Niobium-Oxid

Übersicht über Lithium-Niob-Oxid-Sputter-Targets

Lithium-Niob-Oxid
-Sputter-Targets sind hochdichte, hochgradig gleichmäßige Funktionsmaterial-Targets, die bei der Herstellung von Dünnschichten und in wissenschaftlichen Forschungsexperimenten zum Einsatz kommen. Sie werden häufig in Kathodenschichten für Lithium-Ionen-Batterien, optoelektronischen Geräten und bei der Abscheidung von Funktionsbeschichtungen verwendet.

Wir bieten hochdichte, hochgradig einheitliche LNO-Sputter-Targets an, deren Größe, Dicke und Form ganz nach Kundenwunsch angepasst werden können. Kontaktieren Sie uns
für Muster und maßgeschneiderte Lösungen!

Produkt-Highlights

Hohe Dichte gewährleistet gleichmäßige Filmabscheidung
Stabile Kristallstruktur gewährleistet zuverlässige Abscheidungsergebnisse
Anpassbare Größe, Dicke und Form
Unterstützt die Forschung und industrielle Dünnschichtfertigung
Feine Oberflächenbearbeitung reduziert Defekte
Schnelle Reaktion unseres technischen Teams

Anwendungen von Lithium-Nioboxid-Sputter-Targets

Herstellung von Dünnschicht-Kathodenmaterial:
Wird für die Abscheidung von Hochleistungs-Lithium-Ionen-Batterie-Kathodenfilmen verwendet und verbessert die Zyklusstabilität und die elektrochemische Leistung.
Optoelektronische Geräte:
Geeignet für optische Geräte und die Abscheidung von funktionalen Dünnschichten in der Mikroelektronik, wobei die Kristallintegrität gewährleistet ist.
Funktionale Beschichtungen:
Wird für die Herstellung von Sensoren, mikroelektronischen Strukturen und hochpräzisen Beschichtungen verwendet und gewährleistet dichte und gleichmäßige Schichten.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Abscheidungsverfahren eignen sich für LNO-Sputter-Targets?
A1: Geeignet für Magnetron-Sputtern, Elektronenstrahlverdampfung und andere herkömmliche PVD-Verfahren.

F2: Können Größe und Dicke des Targets individuell angepasst werden?
A2: Ja, je nach den Anforderungen der Kundenausrüstung sind verschiedene Spezifikationen verfügbar.

F3: Wie ist die Gleichmäßigkeit des abgeschiedenen Films?
A3: Die Dichte des Targets und die optimierte Kristallstruktur gewährleisten eine hohe Filmgleichmäßigkeit und Kristallqualität.

F4: Gibt es Defekte auf der Oberfläche des Sputtertargets?
A4: Die Oberfläche des Targets wird präzise poliert und bearbeitet, was zu einer geringen Defektrate führt und für die hochpräzise Dünnschichtherstellung geeignet ist.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Dank unserer langjährigen Erfahrung in der Herstellung von Sputtertargets für Funktionsmaterialien können wir maßgeschneiderte, hochwertige LNO-Sputtertargets anbieten, um die Stabilität und Effizienz der Dünnschichtabscheidung in der wissenschaftlichen Forschung und in industriellen Anwendungen zu gewährleisten. Unser technisches Team bietet schnelle Reaktionszeiten und professionellen Support, um Kunden bei der Herstellung hochpräziser Dünnschichten zu unterstützen.