Zinkfluorid
-Sputter-Targets zeichnen sich durch hohe Reinheit und hervorragende Sputter-Eigenschaften aus und werden häufig in der Dünnschichtabscheidung, bei optischen Beschichtungen und in der Elektronikkomponentenfertigung eingesetzt, um einen effizienten und stabilen Betrieb zu gewährleisten.
Unsere ZnF2-Sputter-Targets werden in Präzisionsverfahren hergestellt, wodurch eine hohe Reinheit und gute Stabilität gewährleistet sind, die für verschiedene Anforderungen der Dünnschichttechnologie geeignet sind. Bitte kontaktieren Sie uns
für weitere Produktinformationen und technischen Support.
Hohe Reinheit, verbessert die Filmqualität
Hohe Stabilität, verlängert die Lebensdauer
Hervorragende Sputterleistung, verbessert die Effizienz
Entspricht den Industriestandards, vielseitig einsetzbar
Gleichmäßige Partikel, hervorragender Sputtereffekt
Maßgeschneiderte Dienstleistungen für spezifische Anforderungen
Strenge Qualitätskontrolle gewährleistet eine stabile Lieferung
Hohe Leistung, anpassungsfähig an komplexe Arbeitsumgebungen
Optische
Beschichtung: Wird im Bereich der Optik zur Beschichtung von optischem Glas und Linsen verwendet, um die Lichtdurchlässigkeit und die Antireflexeigenschaften zu verbessern.
Elektronische Komponenten: Wird in der Elektronikindustrie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet, um die Leistung von Dünnschichten zu optimieren.
Dünnschichtabscheidung: ZnF2-Targets werden in verschiedenen Dünnschichttechnologien eingesetzt und spielen eine stabilisierende Rolle in hocheffizienten Dünnschichtabscheidungsprozessen.
Lasergeräte: Geeignet für die Herstellung von Lasergeräten, verbessert die Leistung und Stabilität der Geräte.
F1: Wie hoch ist die Reinheit unserer ZnF2-Sputter-Targets?
A1: Unsere Targets haben eine Reinheit von 99,99 % und erfüllen die Anforderungen der anspruchsvollsten Dünnschichtabscheidungsanwendungen.
F2: Für welche Dünnschichtabscheidungstechniken können unsere ZnF2-Sputtertargets verwendet werden?
A2: Geeignet für verschiedene Dünnschichtabscheidungstechniken wie Magnetron-Sputtern und reaktives Sputtern, die in der Optik, Elektronik und Materialwissenschaft weit verbreitet sind.
F3: Wie hoch ist die Sputter-Effizienz unserer ZnF2-Sputtertargets?
A3: Hervorragende Sputter-Effizienz, die eine hochwertige, gleichmäßige Dünnschichtabscheidung ermöglicht und die Prozessstabilität gewährleistet.
F4: Wie hoch ist die Lebensdauer unserer ZnF2-Sputtertargets?
A4: Unter normalen Betriebsbedingungen haben sie eine lange Lebensdauer. Eine strenge Qualitätskontrolle gewährleistet eine stabile Leistung.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir konzentrieren uns auf die Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von Hochleistungs-Sputter-Targets und bieten hochwertige ZnF2-Sputter-Targets, um den vielfältigen Kundenanforderungen bei Dünnschichtabscheidungsprozessen gerecht zu werden. Wir bieten professionellen technischen Support, um eine stabile Produktqualität und -leistung zu gewährleisten.
Molekulare Formel: ZnF₂
Molekulargewicht: 81,38 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Weißes, dichtes keramisches Target mit einer glatten und gleichmäßigen Oberfläche
Dichte: 4,82 g/cm³
Schmelzpunkt: 872 °C
Siedepunkt: 1.500 °C (zersetzt sich)
Kristallstruktur: Tetragonal (Rutil-artige Struktur)
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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