ULPMAT

Nickel-Silicid

Chemical Name:
Nickel-Silicid
Formula:
NiSi2
Product No.:
281400
CAS No.:
12201-89-7
EINECS No.:
235-379-3
Form:
Pulver
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
281400PD001 NiSi2 99% -80 Mesh Inquire
281400PD002 NiSi2 99.5% -325 Mesh Inquire
Product ID
281400PD001
Formula
NiSi2
Purity
99%
Dimension
-80 Mesh
Product ID
281400PD002
Formula
NiSi2
Purity
99.5%
Dimension
-325 Mesh

Nickel-Silicid-Pulver Übersicht

Nickel-Silicid pulver ist ein hochreines Nickeldisilicid-Material, das in Halbleiterbauelementen, leitfähigen Dünnschichten, optoelektronischen Materialien sowie in der wissenschaftlichen Forschung und Entwicklung weit verbreitet ist.

Wir bieten chemisch stabiles NiSi2-Pulver in gleichmäßiger Größe an, anpassbar um spezifische Prozess- und Anwendungsanforderungen zu erfüllen. Kontaktieren Sie uns für detaillierte technische Informationen.

Produkt-Highlights

Hochreines Nickeldisilicid
Gleichmäßiges Pulver
Ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit
Gute thermische Stabilität
Leicht zu dispergieren und zu verarbeiten
Zuverlässige Chargenkonsistenz
Anpassbare Spezifikationen und Verpackungen

Anwendungen von Nickel-Silicid-Pulver

Halbleiter Geräte: Geeignet für die Herstellung von Halbleiter-Dünnschichten und -Geräten, zur Verbesserung der Leitfähigkeit und der Stabilität der Geräte.
Leitfähige Dünnschichten: Zur Herstellung leitfähiger Filme und funktioneller Beschichtungen, die die Leistung und Haltbarkeit elektronischer Geräte verbessern.
Optoelektronische Werkstoffe: Geeignet für Dünnschichten für optoelektronische Geräte, wie z. B. Fotovoltaik und Fotodetektoren, zur Verbesserung der fotoelektrischen Umwandlungseffizienz.
Wissenschaftliche Forschung und Prozessentwicklung: Geeignet für Forschungseinrichtungen zur Durchführung von Leistungstests mit Nickeldisilizidpulver, Materialmodifikation und Experimenten zu neuen Verfahren.

FAQs

Q1: Kann die Partikelgröße von NiSi2-Pulver angepasst werden?
A1: Ja, wir bieten Pulver in verschiedenen Korngrößenbereichen an, um unterschiedlichen Prozess- und Anwendungsanforderungen gerecht zu werden.

Q2: Ist das Pulver anfällig für Oxidation oder Zersetzung?
A2: Es ist unter trockenen Bedingungen bei Raumtemperatur chemisch stabil. Eine versiegelte Lagerung wird empfohlen, um die Aufnahme von Feuchtigkeit zu verhindern.

F3: Ist NiSi2-Pulver für die Herstellung von Halbleiter-Dünnschichten geeignet?
A3: Ja, seine hohe Reinheit und Gleichmäßigkeit sind vorteilhaft für die Abscheidung von Dünnschichten und die Optimierung der Bauelementeleistung.

F4: Kann das Pulver für leitfähige Materialien und wissenschaftliche Forschungsexperimente verwendet werden?
A4: Ja, es kann die Leitfähigkeit verbessern und die Materialprüfung und Prozessentwicklung in Forschungseinrichtungen erleichtern.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Zertifikat der Analyse (COA)
Technisches Datenblatt (TDS)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Dritten auf Anfrage erhältlich

Warum uns wählen?

Wir sind auf die Erforschung und Lieferung von hochreinem NiSi₂-Pulver spezialisiert und legen dabei besonderen Wert auf die Gleichmäßigkeit des Pulvers, seine chemische Stabilität und Prozesskompatibilität. Wir bieten zuverlässige Materialien für Halbleiterbauelemente, leitfähige Dünnschichten, optoelektronische Materialien und wissenschaftliche Forschungsanwendungen.

Molekulare Formel: NiSi₂
Molekulargewicht: 140,75 g/mol
Erscheinungsbild: Schwarzes oder grauschwarzes Pulver
Dichte: Ca. 6,51 g/cm³
Schmelzpunkt: Ca. 1.500°C
Siedepunkt: Zersetzungspunkt ca. 2.000°C
Kristallstruktur: Orthorhombische Kristallstruktur

Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.

SKU 281400PD Kategorie Tags: Marke:

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