ULPMAT

헥사플루오르알루미늄산나트륨(크라이오라이트)

Chemical Name:
헥사플루오르알루미늄산나트륨(크라이오라이트)
Formula:
Na3AlF6
Product No.:
11130900
CAS No.:
13775-53-6
EINECS No.:
237-410-6
Form:
스퍼터링 타겟
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
11130900ST001 Na3AlF6 / Ø 50.8mm x 3.175mm Inquire
Product ID
11130900ST001
Formula
Na3AlF6
Purity
/
Dimension
Ø 50.8mm x 3.175mm

나트륨 헥사플루오로알루미나이트 스퍼터링 타겟 개요

나트륨 헥사플루오로알루미나이트
스퍼터링 타겟은 전자, 광학 및 코팅 산업의 박막 증착에 사용되는 고성능 무기 재료입니다. 이들의 조성은 PVD(물리적 기상 증착) 공정에서 균일한 증착, 우수한 접착력 및 일관된 필름 품질을 보장합니다.

당사는 산업용 PVD 시스템에 적합한 다양한 크기의 Na3AlF6 스퍼터링 타겟을 제공합니다. 문의 또는 주문은 당사로
직접 연락주시기
바랍니다.

제품 특징

진공 증착 환경에서의 높은 안정성
일관된 박막 형성을 위한 균일한 조성
기판에 대한 우수한 접착력
전자, 광학 및 코팅 응용 분야에 적합
낮은 오염도와 높은 순도로 신뢰성 있는 성능 보장
엄격한 품질 관리 및 테스트

나트륨 알루미늄 플루오라이드 스퍼터링 타겟의 적용 분야

전자 산업: 전자 장치의 유전체 층, 절연막 및 보호층 코팅에 사용됩니다.
광학
및 포토닉스: 탁월한 투명도와 균일성을 지닌 고품질 광학 코팅 생산.
보호 코팅: 부식 및 마모 저항성을 위한 장식용 및 기능성 코팅 적용.
연구 개발: 실험적 박막 증착 및 재료 과학 연구에 적합.

자주 묻는 질문

Q1: Na₃AlF₆ 스퍼터링 타겟은 주로 어떤 산업에서 사용하나요?
A1: 전자, 광학, 코팅 분야 및 연구 실험실에서 박막 증착용으로 자주 사용됩니다.

Q2: Na₃AlF₆ 타겟은 사용 전 어떻게 보관해야 하나요?
A2: 표면 무결성을 유지하기 위해 습기와 기계적 충격으로부터 보호된 건조하고 서늘한 환경에 보관하십시오.

Q3: Na₃AlF₆ 스퍼터링 타겟을 마그네트론 스퍼터링 시스템에 사용할 수 있나요?
A3: 예, 균일한 박막 증착을 위해 마그네트론 및 기타 PVD 스퍼터링 시스템과 완벽하게 호환됩니다.

Q4: 박막 증착에 Na₃AlF₆ 타겟을 사용하면 어떤 장점이 있나요?
A4: 균일한 필름, 우수한 접착력, 낮은 오염도, 안정적인 증착 속도를 제공하여 전반적인 장치 성능을 향상시킵니다.

보고

각 배치에는 다음이 제공됩니다:
분석 증명서(COA)

기술 데이터 시트(TDS)

물질안전보건자료(MSDS)
크기 검사 보고서
요청 시 제3자 시험 보고서 제공

왜 저희를 선택해야 하나요?

신뢰할 수 있는 공급망, 엄격한 품질 관리, PVD 응용 분야 맞춤형 솔루션을 갖춘 고품질 Na₃AlF₆ 스퍼터링 타겟을 제공합니다. 당사 제품은 전자, 광학 및 연구 응용 분야에서 일관된 박막 성능, 우수한 접착력, 최소한의 오염을 보장합니다.

분자식: Na3AlF6
분자량: 209.94 g/mol
외관: 흰색, 고밀도 타겟 블록
밀도: 2.9-3.0 g/cm³(소결 타겟)
융점: 1000°C
결정 구조: 단결정

내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 포장 후 박스에 담습니다.

외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트를 선택합니다.

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