탄소

탄소 회전 타겟 개요

탄소
회전 타겟은 고순도 탄소 소재로 제작되며 연속 스퍼터링 및 대면적 박막 증착 공정에 적합합니다. 높은 박막 형성 효율과 타겟 활용도가 요구되는 생산 환경에서 주로 사용됩니다.

다양한 탄소 회전 타겟을 제공하며 길이, 외경, 구조에 대한 맞춤 제작을
지원합니다. 적합한 솔루션 및 견적을 위해 문의해
주십시오.

제품 특징

고순도 탄소 소재
안정적인 회전 구조
높은 타겟 활용도
연속 생산에 적합
우수한 필름 균일성
맞춤형 치수

적용 분야

대면적 박막 증착: 균일한 커버리지가 필요한 대면적 박막 제조 공정에 적합합니다.
연속 스퍼터링 생산 라인: 자동화 생산 환경에서 생산 효율 향상 및 가동 중지 시간 단축에 기여합니다.
기능성 탄소 기반 코팅: 두께 일관성과 표면 품질에 대한 요구 사항이 높은 탄소 기반 코팅 제조에 사용됩니다.
공정 규모 확대 및 양산 검증: 실험 단계에서 대규모 생산으로 전환하는 과정에서 공정 검증에 흔히 사용됩니다.

자주 묻는 질문

Q1: 회전식 탄소 타겟과 평면 타겟의 주요 차이점은 무엇인가요?
A1: 회전 타겟은 사용 중 타겟 활용률이 높아 연속 생산에 더 적합합니다.

Q2: 회전 타겟의 크기를 장비 모델에 따라 맞춤 제작할 수 있나요?
A2: 예, 장비 파라미터에 맞춰 설계 가능합니다.

Q3: 회전 타겟 사용 중 안정성은 어느 정도인가요?
A3: 합리적인 공정 조건 하에서 회전 과정이 원활하며, 스퍼터링 출력이 안정적입니다.

Q4: 프로젝트 테스트 또는 소량 공급을 지원하나요?
A4: 샘플 검증 및 소량 주문이 가능합니다.

보고서

각 배치별 제공:

분석 증명서(COA)

기술 데이터 시트(TDS)

물질안전보건자료(MSDS)

크기 검사 보고서
요청 시 제3자 테스트 보고서 제공

왜 저희를 선택해야 할까요?

당사는 탄소 기반 스퍼터링 타겟 분야에서 지속적인 공급 및 맞춤화 경험을 보유하고 있어 장비 요구 사항을 신속하게 충족하고 안정적이고 신뢰할 수 있는 탄소 회전 타겟 솔루션을 제공하여 고객이 프로젝트 구현을 효율적으로 완료할 수 있도록 지원합니다.