바나듐 금속 회전 타겟은
연속 박막 증착을 위한 고효율 스퍼터링 재료로, 진공 코팅 공정에서 장기 안정적 운전에 적합합니다. 본 제품은 주로 대면적 코팅, 기능성 박막 제조 및 박막 균일성에 대한 요구가 높은 산업 및 연구 분야에 사용됩니다.
다양한 장비 사양에 맞춘 바나듐 금속 회전 스퍼터링 타겟을 제공하며, 맞춤형 구조 및 치수를 지원합니다. 기술 지원이
필요하시면 문의해
주십시오.
연속 스퍼터링 공정 적합
타겟 활용률 우수
박막 균일성 우수
구조적 안정성 강함
백튜브 본딩 지원
주류 코팅 장비 호환
대면적 기능성 박막 증착:
바나듐 금속 회전 타겟은 대면적 기판의 연속 스퍼터링에 적합하여 생산 효율을 높이고 박막 두께 일관성을 유지합니다.
산업용 진공 코팅 생산:
산업용 코팅 라인에서 회전 타겟은 단일 사용 주기를 연장하고 교체로 인한 가동 중단 시간을 줄이며 전체 생산 능력을 향상시킵니다.
반도체 및 전자 장치 코팅:
이 타겟 소재는 바나듐 관련 박막을 제조하는 데 사용될 수 있으며, 전자 장치의 박막 안정성 및 재현성 요구 사항을 충족합니다.
연구 및 공정 규모 확대 검증:
회전 타겟은 실험 단계에서 파일럿 규모 단계로의 공정 규모 확대에 적합하며, 다양한 작동 조건 하에서 바나듐 박막의 증착 성능을 평가하는 데 사용됩니다.
Q1: 평면 타겟에 비해 바나듐 금속 회전 타겟의 주요 장점은 무엇입니까?
A1: 회전 타겟은 스퍼터링 과정에서 표면을 지속적으로 갱신하여 타겟 활용도와 박막 균일성을 개선하는 데 도움이 됩니다.
Q2: 바나듐 회전 타겟은 장기 연속 가동에 적합합니까?
A2: 예, 본 제품은 연속 스퍼터링 조건을 위해 설계되어 장기간 안정적인 사용을 지원합니다.
Q3: 바나듐 금속 회전 타겟은 백튜브 접합이 필요합니까?
A3: 일반적으로 필요합니다. 장비 요구사항에 따라 바나듐 타겟은 방열 및 기계적 안정성 향상을 위해 금속 백튜브에 접합됩니다.
Q4: 바나듐 회전 타겟은 어떤 종류의 코팅 장비에 적합합니까?
A4: 본 타겟은 다양한 산업용 코팅 장비와 호환되며, 장비 파라미터에 따라 특정 인터페이스 및 치수를 맞춤 제작할 수 있습니다.
각 배치에는 다음이 제공됩니다:
분석 증명서(COA)
물질안전보건자료(MSDS)
치수 검사 보고서
요청 시 제3자 시험 보고서 제공 가능
당사는 회전식 스퍼터링 타겟 및 관련 금속 재료에 대한 풍부한 경험을 보유하고 있으며, 연속 스퍼터링에서 바나듐 금속의 공정 특성에 정통합니다. 신뢰할 수 있는 제품 일관성, 유연한 맞춤 제작
능력, 명확한 기술 커뮤니케이션을 제공하여 고객이 안정적이고 효율적인 박막 생산을 달성할 수 있도록 지원합니다.
분자 공식: V
분자량: 50.9415 g/mol
외관: 은회색 금속 회전 타겟
밀도: 6.11 g/cm³
녹는점: 1910°C
끓는점: 3377°C
결정 구조: 육각형 밀집형(hcp)
내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 포장 후 박스에 담습니다.
외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트를 선택합니다.