ULPMAT

망간 금속

Chemical Name:
망간 금속
Formula:
Mn
Product No.:
2500
CAS No.:
7439-96-5
EINECS No.:
231-105-1
Form:
스퍼터링 타겟
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2500ST001 Mn 99.8% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
2500ST002 Mn 99.8% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
2500ST003 Mn 99.8% 300 mm x 100 mm x 6mm Inquire
2500ST004 Mn 99.95% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
2500ST005 Mn 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
2500ST006 Mn 99.95% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
2500ST007 Mn 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
2500ST008 Mn 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
2500ST009 Mn 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
2500ST001
Formula
Mn
Purity
99.8%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
2500ST002
Formula
Mn
Purity
99.8%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
2500ST003
Formula
Mn
Purity
99.8%
Dimension
300 mm x 100 mm x 6mm
Product ID
2500ST004
Formula
Mn
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
2500ST005
Formula
Mn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
2500ST006
Formula
Mn
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
2500ST007
Formula
Mn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
2500ST008
Formula
Mn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
2500ST009
Formula
Mn
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm

망간 스퍼터링 타겟 개요

망간 금속
스퍼터링 타겟은 물리적 기상 증착(PVD) 공정에서 고품질 박막을 형성하는 데 사용되는 고순도 금속 타겟입니다. 이 소재는 첨단 전자 제조, 광학 코팅 및 기능성 표면 처리 분야에서 중요한 응용 분야를 가지고 있습니다.

당사는 맞춤형 크기의 고순도 망간 타겟을 공급할 수 있습니다. 문의
바랍니다.

제품 하이라이트

우수한 박막 증착 성능
고밀도 및 고순도 옵션 제공
맞춤형 형상 제작
가능 맞춤형
본딩 및 백플레인 적용 가능
탁월한 열전도성 및 전기적 안정성
다양한 스퍼터링 장비 호환
엄격한 품질 관리 시스템

망간 금속 스퍼터링 타겟의 응용 분야

반도체
제조 및 집적 회로: 망간 스퍼터링 타겟은 실리콘 웨이퍼와 같은 기판에 균일하고 고성능의 금속 박막을 증착하는 데 사용되어 집적 회로 및 반도체 공정의 중요한 원료입니다.

디스플레이 및 전자기기 코팅: 평판 디스플레이, OLED/LED 디스플레이 부품 및 터치 장치 제조 시 망간 타겟은 성능과 신뢰성을 향상시키기 위한 기능성 박막 증착에 사용됩니다.

센서 및 저장 매체 제조: 자기 저장 매체 및 다양한 센서 부품용 금속 박막 제조에 사용되어 제품 안정성과 응답 성능을 향상시킵니다.

광학
및 장식용 코팅: 광학 박막 및 장식용 코팅 공정에서 스퍼터링 증착은 내 스크래치성과 표면 균일성을 향상시켜 거울 및 건축용 유리 등의 응용 분야에 적합합니다.

FAQs

Q1: 망간 스퍼터링 타겟에 적합한 증착 공정은 무엇입니까?
A1: 망간 스퍼터링 타겟은 주로 마그네트론 스퍼터링과 같은 물리적 기상 증착(PVD) 기술에 사용되어 고품질 금속 박막을 형성합니다.

Q2: 스퍼터링 타겟의 순도는 박막 품질에 어떤 영향을 미치나요?
A2: 타겟 순도가 높을수록 박막 내 불순물을 줄여 전기적·물리적 특성을 개선하므로 더 높은 공정 요구사항을 충족시킬 수 있습니다.

Q3: 비표준 크기의 타겟을 제공할 수 있나요?
A3: 고객 장비 사양에 따라 타겟 형상과 크기를 맞춤 제작하며, 다양한 모델 및 공정 플랫폼과 호환됩니다.

Q4: 제품의 백플레인 또는 본딩 방법은 어떻게 선택하나요?
A4: 스퍼터링 장비 유형과 열처리 조건에 따라 인듐 본딩 등 적절한 백플레인과 본딩 방법을 선택하여 스퍼터링 안정성과 방열 성능을 향상시킬 수 있습니다.

보고서

각 배치별 제공 항목:

분석 증명서(COA)

기술 데이터 시트(TDS)

물질 안전 데이터 시트(MSDS)

크기 검사 보고서
요청 시 제3자 시험 보고서 제공

왜 저희를 선택해야 하나요?

성숙한 타겟 가공 및 시험 시스템을 보유하여 재료 순도, 치수 관리, 배치 공급 측면에서 경쟁력을 갖추고 있습니다. 또한 전문 기술 지원과 신속한 대응 서비스를 제공하여 고객사의 안정적인 생산과 고품질 박막 제조를 지원합니다.

분자 공식: Mn
분자량: 54.94 g/mol
외관: 은회색 표적 물질
밀도: 7.21 g/cm³
융점: 1244 °C
끓는점: 2095 °C
결정 구조: 큐빅 중심(BCC, α-Mn)

내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 포장 후 박스에 담습니다.

외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트를 선택합니다.

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