ULPMAT

니켈 금속

Chemical Name:
니켈 금속
Formula:
Ni
Product No.:
2800
CAS No.:
7440-02-0
EINECS No.:
231-111-4
Form:
스퍼터링 타겟
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2800ST001 Ni 99.99% Ø 25.4 mm x 0.5 mm Inquire
2800ST002 Ni 99.99% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
2800ST003 Ni 99.99% Ø 50.8 mm x1 mm Inquire
2800ST004 Ni 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
2800ST005 Ni 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
2800ST006 Ni 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
2800ST007 Ni 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
2800ST008 Ni 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
2800ST009 Ni 99.99% Ø 150 mm x 2 mm Inquire
2800ST010 Ni 99.99% Ø 152.4 mm x 3.175 mm Inquire
2800ST011 Ni 99.99% Ø 152.4 mm x 6.35 mm Inquire
2800ST012 Ni 99.99% 300 mm x 100 mm x 4 mm Inquire
2800ST013 Ni 99.99% 508 mm x 127 mm x 2 mm Inquire
Product ID
2800ST001
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 0.5 mm
Product ID
2800ST002
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
2800ST003
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x1 mm
Product ID
2800ST004
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
2800ST005
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
2800ST006
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
2800ST007
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
2800ST008
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
2800ST009
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 150 mm x 2 mm
Product ID
2800ST010
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 152.4 mm x 3.175 mm
Product ID
2800ST011
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
Ø 152.4 mm x 6.35 mm
Product ID
2800ST012
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
300 mm x 100 mm x 4 mm
Product ID
2800ST013
Formula
Ni
Purity
99.99%
Dimension
508 mm x 127 mm x 2 mm

니켈 스퍼터링 타겟 개요

니켈
스퍼터링 타겟은 물리적 기상 증착(PVD) 공정에서 주로 기능성 박막 제조 및 표면 공정에 사용되는 고순도 금속 재료입니다.

다양한 사양, 밀도 및 순도 등급의 니켈 스퍼터링 타겟을 제공하며, 맞춤형 크기 및 기술
상담을 지원합니다. 맞춤형 솔루션에 대해서는 문의해
주십시오.

제품 하이라이트

안정적인 순도 제어
높은 타겟 밀도
균일한 스퍼터링 공정
우수한 필름 재현성
탁월한 방전 안정성
다양한 장비 호환성

니켈 스퍼터링 타겟의 적용 분야

반도체
및 마이크로전자 박막: 마이크로전자 제조에서 니켈 기반 박막은 전도성 또는 기능성 층 제작에 널리 사용됩니다. 타겟 안정성은 일관된 필름 두께와 성능 달성에 기여합니다.
자기 및 기능성 코팅: 니켈 관련 박막은 자기 및 기능성 코팅에 광범위하게 활용됩니다. 스퍼터링 공정을 통해 균일한 구조와 우수한 접착력을 가진 코팅을 구현할 수 있습니다.
표면 공학 및 보호 코팅: 내마모성 또는 내식성 코팅 분야에서 니켈 타겟은 치밀한 보호층을 형성하여 기판의 수명을 연장하는 데 활용됩니다.
과학 연구 및 공정 개발: 니켈 금속 스퍼터링 타겟은 실험실 수준의 박막 연구 및 공정 파라미터 탐색에 적합하며, 연구 개발 단계에서 요구되는 반복성과 안정성을 충족합니다.

자주 묻는 질문

Q1: 니켈 금속 스퍼터링 타겟은 어떤 증착 공정에 적합합니까?
A1: 주로 물리적 기상 증착(PVD) 공정에 사용되며, 다양한 일반 스퍼터링 장비와 호환됩니다.

Q2: 타겟의 밀도가 성능에 영향을 미칩니까?
A2: 밀도는 스퍼터링 안정성과 필름 균일성에 상당한 영향을 미칩니다. 고밀도 타겟은 연속 사용에 더 유리합니다.

Q3: 장비 크기에 따라 타겟을 맞춤 제작할 수 있나요?
A3: 예, 다양한 크기, 두께, 구조의 맞춤형 가공을 지원합니다.

Q4: 타겟 보관 시 주의사항은 무엇인가요?
A4: 밀폐 용기에 보관하고 습한 환경 및 표면 오염을 피하여 재료 안정성을 유지할 것을 권장합니다.

보고서

각 배치에는 다음이 제공됩니다:
분석 증명서(COA)

기술 데이터 시트(TDS)

물질안전보건자료(MSDS)
크기 검사 보고서
요청 시 제3자 시험 보고서 제공 가능

왜 저희를 선택해야 할까요?

저희는 오랫동안 스퍼터링 타겟의 준비 및 공급에 주력해 왔으며, 원자재 선정, 공정 제어 및 품질 안정성을 중시합니다. 명확한 기술 문서와 유연한 맞춤 제작 능력을 통해 고객이 박막 제조 공정의 불확실성을 줄일 수 있도록 지원합니다.

분자 공식: Ni
분자량: 58.69 g/mol
외관: 은백색 금속 타겟, 매끄러운 표면, 원형 또는 직사각형
밀도: 8.90g/cm³
융점: 1455°C
끓는점: 2913°C
결정 구조: 면 중심 입방 결정 구조

내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 담아 박스에 포장합니다.

외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트를 선택합니다.

문서

No PDF files found.

문의하기

서비스가 필요한 경우 문의해 주세요.

자세한 정보

더 많은 제품

문의하기

문의하기

열 스프레이

웹 사이트가 완전히 업그레이드되었습니다.