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니켈 금속

Chemical Name:
니켈 금속
Formula:
Ni
Product No.:
2800
CAS No.:
7440-02-0
EINECS No.:
231-111-4
Form:
로터리 타겟
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2800RT001 Ni 99.5% ID 125mm x OD 135mm x 538mm Inquire
Product ID
2800RT001
Formula
Ni
Purity
99.5%
Dimension
ID 125mm x OD 135mm x 538mm

니켈 금속 회전 타겟 개요

니켈 금속
회전 타겟은 연속 스퍼터링 증착 공정에 사용되는 고순도 금속 타겟으로, 대면적 박막 제조 및 산업 생산 응용 분야에 적합합니다.

다양한 길이, 직경 및 본딩
구조의 니켈 금속 회전 타겟을 제공하며, 장비 호환성을 위한 기술
검증을 지원합니다. 맞춤형
솔루션은 문의 바랍니다
.

제품 하이라이트

연속 스퍼터링 작업에 적합
높은 타겟 활용도
우수한 방전 안정성
우수한 필름 균일성
신뢰성 있는 구조적 강도
대량 생산 공정 적용 가능

니켈 금속 회전 타겟의 적용

분야
대면적 기능성 박막 제조: 건축용 유리 또는 산업용 코팅 분야에서 니켈 금속 회전 타겟은 장기간 안정적인 증착을 지원하여 균일한 두께의 기능성 박막 획득에 기여합니다.
전자 및 반도체
제조: 전자기기 생산에서 회전 타겟 구조는 고주기 공정 요구사항에 적합하여 생산 효율을 높이고 가동 중지 시간을 줄입니다.
표면 공학 및 보호 코팅: 니켈 기반 회전 타겟은 내마모성 또는 내식성 코팅 형성에 사용될 수 있으며, 연속 코팅 표면 공학 응용 분야에 적합합니다.
연구 및 공정 규모 확대 검증: 니켈 금속 회전 타겟은 실험 단계에서 파일럿 규모 단계로의 공정 규모 확대 검증에도 적합하여, 연속 증착 조건 하에서 박막 성능 평가를 용이하게 합니다.

FAQs

Q1: 평면 타겟 대비 회전 타겟의 장점은 무엇인가요?
A1: 회전 타겟은 활용률이 높고, 장기간 연속 스퍼터링에 적합하며, 생산 효율을 효과적으로 향상시킬 수 있습니다.

Q2: 니켈 금속 회전 타겟과 호환되는 장비는 무엇입니까?
A2: 다양한 스퍼터링 시스템에 따라 크기와 구조를 맞춤 제작하여 장비 설치 요구 사항을 충족할 수 있습니다.

Q3: 회전 타겟이 박막 균일성에 영향을 미치나요?
A3: 회전 구조는 타겟 재료의 균일한 소모를 돕고, 이를 통해 박막 증착의 일관성을 향상시킵니다.

Q4: 제품 운송 및 보관 시 주의사항은 무엇인가요?
A4: 충격 방지 및 방습 포장을 사용하고, 타겟 표면의 오염이나 기계적 손상을 피할 것을 권장합니다.

보고서

각 배치에는 다음이 제공됩니다:
분석 증명서(COA)

기술 데이터 시트(TDS)

물질 안전 보건 자료(MSDS)
크기 검사 보고서
요청 시 제3자 테스트 보고서 제공 가능

당사를 선택해야 하는 이유?

당사는 스핀 스퍼터링 타겟의 준비 및 납품에 대한 풍부한 경험을 보유하고 있어, 타겟 안정성을 보장하면서 당사 장비와 높은 호환성을 지닌 맞춤형 솔루션을 제공하여 고객이 효율적이고 지속 가능한 박막 생산을 달성할 수 있도록 지원합니다.

분자 공식: Ni
분자량: 58.69 g/mol
외관: 표면이 매끄러운 은백색 금속 디스크, 일반적으로 원형 또는 맞춤형 모양입니다.
밀도: 8.90g/cm³
융점: 1455°C
끓는점: 2913°C
결정 구조: 면 중심 입방 결정 구조

내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 포장 후 박스에 담습니다.

외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트를 선택합니다.

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