크롬 실리사이드
스퍼터링 타겟은 크롬과 실리콘의 합금으로 구성되어 우수한 고온 내성과 산화 저항성을 지니며, 박막 증착 및 고성능 코팅에 널리 사용됩니다. 안정적인 물리적 특성으로 인해 전자, 광학
및 반도체
산업에 이상적인 소재입니다.
다양한 고온 및 고강도 응용 분야에 적합한 고품질 CrSi2 스퍼터링 타겟을 제공합니다. 맞춤
제작 요구사항이나 기술 상담이 필요하시면 언제든지 문의해
주십시오.
우수한 고온 내성
탁월한 산화 저항성
높은 스퍼터링 효율
균일하고 안정적인 박막 증착 제공
우수한 기계적 강도
맞춤형 크기 및 사양 요구사항 충족
박막 증착:
반도체
, 광전자 소자 등의 박막 증착에 널리 사용되며, 균일한 박막을 효율적으로 생성하여 소자의 안정성과 기능성을 향상시킵니다.
고온 코팅:
우수한 고온 안정성과 내식성을 지녀 항공우주, 자동차 산업, 고온 코팅 등 고온 환경 코팅 기술에 널리 사용됩니다.
광학 코팅:
고성능 광학 코팅 제조에 사용되며, 광학 부품의 반사율, 내마모성 및 내산화성을 향상시킵니다. 렌즈, 레이저 장비 및 태양
전지에 일반적으로 사용됩니다.
전자 장치
: 전도성 및 열전도성 재료로서 전자 장치, 특히 고전력 전자 부품, 센서 및 집적 회로 제조에 널리 사용됩니다.
Q1: 크롬 실리사이드 스퍼터링 타겟의 포장 및 보관 요건은 무엇인가요?
A1: 운송 중 습기나 기타 외부 요인의 영향을 받지 않도록 방습 포장을 사용합니다. 고온 다습을 피하고 건조하고 서늘한 장소에 보관해야 합니다.
Q2: CrSi2 스퍼터링 타겟의 안정성과 성능은 어떻게 보장하나요?
A2: 첨단 생산 공정과 엄격한 품질 관리 절차를 적용합니다. 원자재 선정부터 생산 공정 각 단계에 걸쳐 철저한 검사를 실시하여 제품 성능의 안정성과 산업 표준 준수를 보장합니다.
Q3: CrSi2 타겟 스퍼터링은 어떻게 수행되나요?
A3: 마그네트론 스퍼터링 기술을 사용합니다. 이 방법은 반도체 및 광학 코팅 등 산업 분야의 요구 사항에 적합한 균일하고 고품질의 박막을 효과적으로 증착할 수 있습니다.
Q4: 크롬 실리사이드 스퍼터링 타겟의 적용 분야는 무엇인가요?
A4: 박막 증착, 전자기기, 고온 코팅, 광학 코팅 등에 사용되며, 특히 고온 및 고강도 환경이 요구되는 분야에 적합합니다.
각 배치별 제공 항목:
분석 증명서(COA)
물질안전보건자료(MSDS)
크기 검사 보고서
요청 시 제3자 시험 보고서 제공
할까요
저희는 전문 스퍼터링 타겟 제조사로서 고객에게 고품질 CrSi₂ 스퍼터링 타겟을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다. 정밀한 제조 공정, 엄격한 품질 관리, 맞춤형 서비스를 통해 귀사의 프로젝트에 가장 신뢰할 수 있는 제품과 기술 지원을
보장합니다.
분자식: CrSi₂
분자량: 152.00 g/mol
외관: 회색 대상 물질
밀도: 5.5 g/cm³
융점: 1600°C
결정 구조: 테트라고날
내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 포장 후 박스에 담습니다.
외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트를 선택합니다.
