ULPMAT

규산 바나듐

Chemical Name:
규산 바나듐
Formula:
VSi2
Product No.:
231400
CAS No.:
12039-87-1
EINECS No.:
234-908-5
Form:
스퍼터링 타겟
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
231400ST001 VSi2 99.5% Ø 50.8mm x 3.175mm Inquire
231400ST002 VSi2 99.5% Ø 76.2mm x 3.175mm Inquire
231400ST003 VSi2 99.5% Ø 101.6mm x 6.35mm Inquire
Product ID
231400ST001
Formula
VSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8mm x 3.175mm
Product ID
231400ST002
Formula
VSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2mm x 3.175mm
Product ID
231400ST003
Formula
VSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6mm x 6.35mm

바나듐 실리사이드 스퍼터링 타겟 개요

바나듐 실리사이드
스퍼터링 타겟은 우수한 전도성과 고온 안정성을 결합한 기능성 타겟으로, 다양한 물리적 기상 증착 공정에 적합합니다. 이 타겟은 균일한 구조와 안정적인 성능을 가진 실리사이드 박막을 제조하는 데 사용될 수 있습니다.

다양한 크기, 형상 및 제어된 밀도의 바나듐 실리사이드 스퍼터링 타겟을 제공합니다. 맞춤형 솔루션 및 기술 지원이
필요하시면 문의해
주십시오.

제품 하이라이트

높은 스퍼터링 안정성
고밀도 및 균일한 타겟
우수한 필름 전도도
고온 응용 분야에 대한 신뢰성
구조 및 크기 맞춤 제작 가능
일관된 배치 안정성

바나듐 실리사이드 스퍼터링 타겟의 응용 분야

전도성 기능성 박막 제조:
전자 장치 및 관련 기능성 층 증착에 사용될 수 있는 전도성 기능성 박막 제조에 적합합니다.
고온 전자 재료 코팅:
우수한 열 안정성을 활용하여 고온에서 안정적인 기능성 코팅을 제작할 수 있어 고온 전자 응용 분야의 요구 사항을 충족합니다.
장치 표면 개질:
스퍼터링으로 형성된 바나듐 실리사이드 박막은 장치 표면의 전기적 특성과 작동 안정성을 향상시킬 수 있습니다.
과학 연구 및 박막 공정 연구:
본 타겟은 실리사이드 박막 및 증착 공정 연구에 널리 사용되며, 실험실 및 파일럿 규모 응용에 적합합니다.

자주 묻는 질문

Q1: 바나듐 실리사이드 스퍼터링 타겟에 적합한 스퍼터링 방법은 무엇입니까?
A1: DC 또는 RF 스퍼터링 공정에 적합하며, 우수한 박막 균일성과 안정성을 제공합니다.

Q2: 타겟 밀도가 필름 성능에 미치는 영향은?
A2: 높은 밀도는 필름 접착력과 전기적 일관성 향상에 도움이 됩니다.

Q3: 본 타겟은 연속 스퍼터링에 적합한가요?
A3: 적절한 냉각 및 공정 조건 하에서 장기 연속 스퍼터링 요구사항을 충족할 수 있습니다.

Q4: 사용 시 주의사항은 무엇인가요?
A4: 타겟 표면을 청결하고 건조하게 유지하며, 장비 상태에 따라 스퍼터링 파라미터를 적절히 제어할 것을 권장합니다.

보고서

각 배치별 제공 항목:
분석 증명서(COA)

기술 데이터 시트(TDS)

물질안전보건자료(MSDS)
크기 검사 보고서
요청 시 제3자 시험 보고서 제공

왜 저희를 선택해야 할까요?

실리사이드 스퍼터링 타겟 제조에 풍부한 경험을 보유하고 있으며, 일관된 성능의 바나듐 실리사이드 스퍼터링 타겟을 안정적으로 공급합니다. 또한 고객의 공정 요구사항에 기반한 맞춤형 지원을 제공하여 고품질 박막 증착을 달성할 수 있도록 돕습니다.

분자 공식: VSi₂
분자량: 86.95 g/mol
외관: 은회색 메탈릭 광택, 메탈릭 텍스처
밀도: 4.76 g/cm³
융점: 1890°C
결정 구조: 육각형

내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 포장 후 박스에 담습니다.

외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트를 선택합니다.

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