이산화규소
과립은 우수한 화학적·열적 안정성을 지닌 고순도 무기 입자 재료입니다. 코팅 재료, 전자 세라믹, 유리 제조, 기능성 박막 등에 널리 사용됩니다.
공정 호환성 이산화규소 과립을 공급하며, 과립 사양·적용 파라미터·가공 기술의 기술적 통합을 지원합니다. 지금 문의하세요
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높은 화학적 불활성
탁월한 열 안정성
균일한 입자 크기와 우수한 유동성
다양한 가공 및 증착 공정 적합
코팅, 세라믹, 박막 재료에 사용 가능
분야
코팅 재료:
SiO₂ 과립은 기능성 코팅 및 보호 박막 제조에 사용되어 표면 특성과 내구성을 향상시킵니다.
전자 세라믹:
세라믹 재료의 원료로서 장치의 절연 성능과 열 안정성을 개선합니다.
유리 제조:
유리 및 광학 재료 생산에 사용되어 재료 균일성과 열안정성을 향상시킵니다.
연구 및 공정 검증:
신소재 및 박막 공정의 연구 개발과 파라미터 최적화를 지원합니다.
Q1: 이산화규소 과립은 어떤 용도에 적합합니까?
A1: 주로 코팅 재료, 전자 세라믹, 유리 및 기능성 박막 제조에 사용됩니다.
Q2: SiO₂ 입자는 고온에서 안정적인가요?
A2: 고온에서도 화학적·물리적 안정성을 유지합니다.
Q3: 입자 형태가 적용 분야에 영향을 미치나요?
A3: 균일하고 안정적인 입자 형태는 공정 일관성과 재료 특성 개선에 도움이 됩니다.
Q4: SiO₂ 입자를 기능성 박막에 직접 사용할 수 있나요?
A4: 예, 박막 증착 및 기능성 코팅의 원료로 사용 가능합니다.
각 배치에는 다음이 제공됩니다:
분석 증명서(COA)
물질안전보건자료(MSDS)
입도 검사 보고서
요청 시 제3자 시험 보고서 제공 가능
저희는 고성능 무기 입상 재료 공급을 전문으로 하며, 안정적이고 추적 가능한 이산화규소 입자를 제공하여 고객이 연구 개발 및 공정 적용에서 높은 일관성과 신뢰성을 달성할 수 있도록 지원합니다.
분자 공식: SiO2
분자량: 60.08 g/mol
외관: 흰색 과립
밀도: 2.65g/cm³(용융 실리카)
2.2g/cm³(비정질 소결 분말 입자)
융점: 1710 °C
끓는점: 2230 °C
결정 구조: 사면체/육면체(석영 결정)
비정질(소결 입자)
내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 담아 박스에 포장합니다.
외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트를 선택합니다.
