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티타늄 금속

Chemical Name:
티타늄 금속
Formula:
Ti
Product No.:
2200
CAS No.:
7440-32-6
EINECS No.:
231-142-3
Form:
로터리 타겟
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2200RT001 Ti 99.5% ID125mm x OD145 x 480mm Inquire
2200RT002 Ti 99.9% ID125mm x OD149 x 1900mm Inquire
Product ID
2200RT001
Formula
Ti
Purity
99.5%
Dimension
ID125mm x OD145 x 480mm
Product ID
2200RT002
Formula
Ti
Purity
99.9%
Dimension
ID125mm x OD149 x 1900mm

티타늄 금속 회전 타겟 개요

티타늄 금속
회전 타겟은 대면적 및 연속 PVD 코팅 공정을 위해 설계되어 티타늄 박막의 안정적이고 효율적인 증착을 가능하게 합니다. 평판 디스플레이, 건축용 유리 코팅, 광학
필름 및 산업용 표면 공학 분야에서 널리 사용됩니다.

당사의 티타늄 회전 타겟은 균일한 침식 및 긴 수명을 위해 설계되었습니다. 공정 호환성 및 코팅 성능 요구 사항에 대해 문의하십시오.

제품 하이라이트

고밀도 티타늄 소재
균일한 침식 프로파일
높은 타겟 활용률
안정적인 스퍼터링 특성
낮은 결함 발생률
고출력 스퍼터링 적합
대면적 코팅 능력
우수한 열전도성

티타늄 금속 회전 타겟의 적용 분야

평판 디스플레이 코팅:
디스플레이 제조 과정에서 티타늄 회전 타겟은 연속적인 스퍼터링을 지원하여 넓은 기판 영역에 걸쳐 안정적인 필름 두께와 조성물을 제공합니다.
광학 기능성 필름:
회전식 티타늄 타겟은 대규모 코팅 시스템에서 광학 층의 균일한 증착을 가능하게 하여 코팅 재현성과 처리량을 향상시킵니다.
산업용 표면 공학:
회전식 스퍼터링을 통해 생성된 티타늄 코팅은 산업 부품의 내마모성, 부식 방지 및 표면 기능성을 향상시키기 위해 적용됩니다.
고처리량 생산 라인:
회전식 설계는 더 긴 중단 없는 스퍼터링 가동을 가능하게 하여 티타늄 회전식 타겟을 대량 생산 환경에 적합하게 합니다.

자주 묻는 질문

Q1: 넓은 면적의 티타늄 코팅에 회전 타겟이 선호되는 이유는 무엇인가요?
A1: 회전 타겟은 더 균일한 침식 및 높은 재료 활용도를 제공하여 넓은 기판 전체에 걸쳐 안정적인 증착 속도를 유지하는 데 도움이 됩니다.

Q2: 회전 스퍼터링이 필름 두께 균일성에 어떤 영향을 미치나요?
A2: 지속적인 회전은 타겟의 균일한 소모를 보장하여 긴 코팅 주기 동안 두께 편차를 줄이고 필름 일관성을 향상시킵니다.

Q3: 티타늄 회전 타겟은 고출력 작동에 적합한가요?
A3: 예, 회전 구조는 열 방출을 개선하여 더 높은 전력 밀도에서도 안정적인 스퍼터링을 가능하게 합니다.

Q4: 어떤 코팅 시스템에서 티타늄 회전 타겟을 주로 사용하나요?
A4: 유리 코팅, 디스플레이 제조 및 산업용 PVD 라인을 위한 인라인 스퍼터링 시스템에서 일반적으로 사용됩니다.

보고서

각 배치에는 다음이 제공됩니다:
분석 증명서(COA)

기술 데이터 시트(TDS)

물질 안전 보건 자료(MSDS)
크기 검사 보고서
요청 시 제3자 테스트 보고서 제공 가능

왜 저희를 선택해야 할까요?

저희는 안정성과 장수명을 위해 설계된 회전식 스퍼터링 재료에 집중하여, 고처리량 코팅 환경에서 일관된 티타늄 필름 증착을 지원합니다.

분자 공식: Ti
분자량: 47.87 g/mol
외관: 은회색 고밀도 회전 타겟 튜브
밀도: 4.51 g/cm³
융점: 1668 °C
끓는점: 3287 °C
결정 구조: 육각형 밀집형(α-Ti, hcp)

내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 포장 후 박스 포장.

외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트로 선택.

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