인듐 플루오르화물 (InF3) 스퍼터링 타겟은 효율적인 박막 증착에 사용되는 고순도 불소 소재입니다. 반도체, 광전자 및 박막 산업에 널리 적용됩니다. 이 불화 인듐 타겟은 우수한 스퍼터링 특성을 보여 균일하고 조밀한 불화 인듐 박막을 증착할 수 있습니다. 디스플레이 기술, 광섬유 통신 및 고성능 코팅이 필요한 전자 장치와 같은 응용 분야에서 핵심적인 역할을 합니다.
높은 스퍼터링 효율: 불화인듐(InF3) 스퍼터링 타겟은 스퍼터링 특성이 우수하여 균일하고 조밀한 필름을 증착할 수 있습니다. 고정밀 제조의 불화 인듐 박막 애플리케이션에 이상적입니다.
고순도 보장: 당사의 불화 인듐 타겟은 99.99% 순도의 재료를 사용하여 제조되어 우수한 박막 품질, 최소한의 결함 및 높은 적용 일관성을 보장합니다.
산업 전반에 걸친 다목적성: InF3 스퍼터링 타겟은 광전자, 반도체 기술, 광섬유 통신, 디스플레이 기술 등 다양한 산업에서 사용할 수 있습니다.
맞춤형 옵션: 입자 크기, 순도 및 스퍼터링 방법에 대한 맞춤화를 제공하여 특정 응용 분야에 맞게 불화 인듐 타겟을 맞춤화할 수 있습니다.
장기적인 안정성: 이 불화 인듐 스퍼터링 타겟은 하이테크 애플리케이션에서 장기적인 성능 안정성을 보장하므로 첨단 광전자 장치 및 반도체에 이상적입니다.
스퍼터링 타겟 응용 분야: 불화인듐(InF3) 스퍼터링 타겟은 주로 디스플레이, 센서 및 광섬유 통신 시스템용 불화인듐 박막 생산과 같은 박막 증착 공정에 사용됩니다. 이 타겟은 우수한 광학 및 전기적 특성을 가진 고품질의 균일한 박막 증착을 제공합니다.
반도체 디바이스 제조: InF3 스퍼터링 타겟은 불소 코팅이 필요한 전자 부품에 적합한 고성능 불화 인듐 필름 증착을 위해 반도체 제조에 사용됩니다.
광전자 장치: 이 불화 인듐 스퍼터링 타겟은 특히 자외선 및 가시광선 범위에서 LED, 레이저 다이오드, 광 검출기 및 변조기와 같은 광전자 장치를 제조하는 데 매우 중요합니다.
광학 광섬유 통신: 불화 인듐 스퍼터링 타겟은 광 변조 및 광전 변환을 위한 광섬유 통신 시스템에 사용되어 고속 데이터 전송을 가능하게 합니다.
고정밀 코팅: 이 InF3 타겟은 디스플레이, 센서 및 첨단 광학 장치의 고효율 코팅에 사용되어 다양한 산업 응용 분야에 보호 및 기능성 레이어를 제공합니다.
고순도 보장: 당사는 99.99% 고순도 불화 인듐 스퍼터링 타겟을 제공하여 고품질의 일관된 박막 증착과 우수한 재료 성능을 보장합니다.
맞춤형 서비스: 당사는 특정 고객 요구 사항을 충족하기 위해 입자 크기, 순도 수준 및 스퍼터링 방법을 맞춤화할 수 있는 다양한 불화 인듐 스퍼터링 타겟 애플리케이션을 위한 맞춤형 솔루션을 제공합니다.
효율적인 배송: 당사는 적시 납품을 보장하고 긴급 주문을 지원하여 고객이 생산 일정을 준수할 수 있도록 합니다.
전문가 기술 지원: 당사의 기술
각 제품 배치에는 분석 인증서(COA), 기술 데이터 시트(TDS), 물질안전보건자료(MSDS) 및 배송 식별 보고서가 함께 제공됩니다. 요청 시 타사 테스트 보고서도 제공됩니다.
화학식: InF₃
분자량: 209.8 g/mol
순도: 99.9%(사용자 지정 가능)
외관: 흰색에서 회백색 분말 또는 타겟
밀도: ~6.3g/cm³
융점: ~ 730°C
끓는점: ~ 1300°C에서 승화
결정 구조: 큐빅(NaCl형)
스퍼터링 방법: DC 스퍼터링(사용자 지정 가능)
내부 포장: 오염과 습기를 방지하기 위해 진공 밀봉된 백 및 박스 포장.
외부 포장: 크기와 무게에 따라 선택된 상자 또는 나무 상자.
