산화 인듐-갈륨 산화물 (In2O3-Ga2O3) 스퍼터링 타겟은 투명 전자, 광전자 소자 및 첨단 반도체 연구에 널리 적용되는 고순도 세라믹 소재입니다. 뛰어난 광학적 투명성, 안정적인 전기 전도성 및 우수한 열 특성을 갖춘 In2O3-Ga2O3 타겟은 디스플레이 기술, 전력 전자 장치 및 차세대 광전자 부품의 박막 증착에 이상적입니다.
당사의 In2O3-Ga2O3 스퍼터링 타겟은 99.99%(4N) 순도, 고밀도, 균일한 미세 구조로 제조되어 산업 및 학술 응용 분야에서 일관된 박막 성능과 재현성을 보장합니다.
고순도: 99.99%(4N)로 신뢰할 수 있는 광학 및 전자 성능을 보장합니다.
안정적인 미세 구조: 조밀하고 균일하여 스퍼터링 효율이 향상됩니다.
뛰어난 투명성: 투명한 전도성 및 기능성 박막에 적합합니다.
열 안정성: 고온의 박막 증착 공정을 견딥니다.
유연한 사양: 원형, 직사각형 또는 맞춤형 모양을 사용할 수 있습니다.
투명 전자 제품: 투명 전도성 층과 박막 소자에 사용됩니다.
광전자 장치: 센서, 감지기 및 고급 광학 코팅에 적용됩니다.
박막 트랜지스터(TFT): 디스플레이 백플레인용 기능성 레이어.
전력 전자: Ga₂O₃는 고전압 및 고주파 성능을 향상시킵니다.
R&D 재료: 반도체 및 재료 과학 연구를 위한 실험실에서 널리 사용됩니다.
전문 제조: 고순도 산화물 및 반도체 스퍼터링 타겟 공급에 주력합니다.
맞춤형 사양: 타겟 크기, 순도 및 조성 비율의 맞춤화를 지원합니다.
엄격한 품질 관리: ICP-MS 불순물 분석을 활용하여 낮은 불순물 수준을 보장합니다.
글로벌 배송: 안전한 포장과 빠른 물류 서비스 제공.
기술 지원: 각 제품 배치에는 완전한 COA, TDS, MSDS 및 불순물 분석 보고서가 함께 제공됩니다.
F1. 산화 인듐-산화 갈륨 스퍼터링 타겟에 어떤 순도 수준을 제공합니까?
A1. 표준 순도는 99.99%(4N)입니다. 요청 시 더 높은 순도를 제공할 수 있습니다.
F2. 다른 모양과 치수를 공급할 수 있습니까?
A2. 예, 고객의 요구에 따라 원형, 직사각형 및 맞춤형 타겟을 제공합니다.
F3. 어떤 백킹 플레이트 옵션을 사용할 수 있나요?
A3. 증착 요구 사항에 따라 Cu, Mo, Al 백킹 플레이트를 제공합니다.
F4. 타겟은 어떻게 포장됩니까?
A4. 안전한 배송을 위해 진공 밀봉 및 충격 방지 포장으로 보호됩니다.
F5. 어떤 산업에서 주로 In2O3-Ga2O3 타겟을 사용합니까?
A5. 투명 전도성 필름, 광전자, TFT 디스플레이 및 전력 전자 연구에 사용됩니다.
각 배치에는 다음이 제공됩니다:
분석 인증서(COA)
기술 데이터 시트(TDS)
물질안전보건자료(MSDS)
요청 시 타사 테스트 보고서도 제공됩니다.
분자식: In₂O₃-Ga₂O₃
외관: 회백색 또는 연회색 고밀도 세라믹 타겟
결정 구조: 입방체(In₂O₃ 1상), 단사면체/정사면체(Ga₂O₃ 상)
본딩 방법: 비본딩, In₂O₃ 본딩 또는 기계적으로 고정 가능
백킹 플레이트 옵션: 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 요청 시 맞춤 제작 가능
내부 포장: 오염과 습기를 방지하기 위해 진공 밀봉된 백 및 박스 포장.
외부 포장: 크기와 무게에 따라 선택된 상자 또는 나무 상자.
