金属ビスマス

金属ビスマス・スパッタリング・ターゲットの概要

ビスマス金属 スパッタリングターゲットは、薄膜成膜プロセス用に設計された高性能材料で、エレクトロニクス、光学、環境保護などの分野で広く使用されています。その高純度と優れた導電性は、効率的で安定した薄膜成膜を保証し、同時に熱安定性と化学反応性にも優れています。

弊社は、様々なプロセス要件に対応するため、円形、長方形、カスタマイズなど、様々な仕様および形状のビスマス金属ターゲットを提供しています。また、包括的なアフターサービスも提供しております。 ご連絡ください。

製品ハイライト

純度：99.9%～99.99
均一な薄膜形成を保証する高密度
さまざまなアプリケーションの要件に対応するカスタマイズ可能なサイズと形状
優れた熱安定性、高温環境での長期安定スパッタリングに最適
良好な導電性と機械的強度
ターゲット結合サービスあり

ビスマス金属スパッタリングターゲットの用途

半導体その優れた導電性により、インターコネクト層、コンタクト層、その他の機能膜層などの半導体デバイスの薄膜成膜に使用できます。
光学コーティング：光学特性と安定性に優れ、光学レンズやレンズの反射層や機能性コーティングに使用される。
電子デバイス電子製品では、導電性と信頼性を向上させるため、電気部品の材料としてビスマス金属ターゲットが使用される。
環境用途：環境に優しい触媒や吸着剤として、ガス精製や水処理などの分野で広く使用されている。
医療分野安定した物性を発揮するため、特定の高エネルギーX線装置に使用されるターゲット。

レポート

分析証明書(COA)、製品安全データシート(MSDS)、その他関連する報告書をバッチ毎に提供します。また、品質保証強化のための第三者試験にも対応しています。