金属ニオブ

ニオブ金属スパッタリングターゲット概要

ニオブ金属スパッタリング

ターゲットは

、物理的気相成長（PVD）プロセス向けに特別に設計された高純度・高密度の金属材料であり、均一な薄膜堆積と高い密着性を保証します。半導体デバイス、光学コーティング、タッチスクリーン、電子部品向けの薄膜堆積に広く使用されています。

当社は高純度・均一密度を特徴とする各種仕様のニオブ金属スパッタリングターゲットを提供しています。直径・厚さ・形状はお客様のニーズに合わせてカスタマイズ可能で、科学研究から工業生産まで幅広く対応します。価格やカスタマイズオプションについてはお問い合わせ
ください。

製品の特徴

高純度ニオブ（99.99%）
高密度・均一性、優れた機械的強度
高い電気伝導性と熱安定性
滑らかな表面、気孔なし
サイズ・厚さ・形状のカスタマイズ可能
ターゲットボンディングサービス対応
各種PVDスパッタリングプロセスに適合
科学研究から産業応用まで幅広いソリューションを提供

ニオブ金属スパッタリングターゲットの用途

半導体
デバイス：高性能半導体薄膜の作製に使用され、デバイスの信頼性を向上させます。
光学
コーティング：光学レンズやディスプレイの薄膜成膜に使用され、膜層の均一性と密着性を確保。
タッチスクリーン材料：タッチスクリーン用導電性薄膜の製造に使用され、応答速度と感度を向上。
電子部品：電子機器の薄膜成膜に使用され、高い導電性と耐久性を確保。

よくある

質問Q1: ニオブスパッタリングターゲットの包装方法は？
A1: 輸送・保管中の汚染や酸化を防ぐため、防湿密封包装、真空袋包装、硬質段ボール箱包装を提供しています。

Q2: ニオブスパッタリングターゲットはどのような加工が可能ですか？
A2: 切断、穴あけ、表面研磨、機械加工が可能で、様々なPVDプロセスや研究ニーズに対応します。

Q3: ニオブスパッタリングターゲットの保管条件は？
A3: 乾燥した涼しい換気環境で保管し、湿気や高温を避けてください。長期保管には不活性ガスまたは密封包装の使用を推奨します。

Q4: ニオブターゲットの利点と純度は？
A4: 当社のニオブターゲットは純度99.99%以上、均一な密度、優れた熱安定性を誇り、均一な薄膜成膜と高い密着性を保証します。高精度な科学研究や産業用途に適しています。

報告書

：各ロットに以下を提供：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能です。

当社を選ぶ理由

・高純度ニオブターゲットによる安定した信頼性
・サイズ・形状・厚みの
カスタマイズ対応

・完全な試験報告書と適合証明書を提供
・小ロットから大口注文まで迅速に対応
・専門技術チームによるPVD応用アドバイス
・豊富な輸出実績と安全確実な輸送体制