酸化リチウム

酸化リチウムスパッタリングターゲット概要

酸化リチウムスパッタリング
ターゲットは

、

固体電池、透明導電膜、酸化物半導体におけるリチウム含有コーティングの製造に向けた先進的な薄膜成膜プロセスに使用されます。優れた反応性と高リチウム含有量を有するLi₂Oターゲットは、マグネトロンスパッタリングおよびPLD（パルスレーザー堆積）システムにおけるリチウム源として機能します。

当社の酸化リチウムスパッタリングターゲットは、典型的な純度≥99.9%の高純度粉末から設計され、焼結またはホットプレスにより高密度かつ均一性を実現しています。包括的な販売サポートも提供しておりますので、ご質問がございましたらお気軽にお問い合わせ
ください。

製品のハイライト

純度：99.9% 以上 (3N)
効率的なドーピングや化合物形成のための高リチウム含有量
カスタムサイズおよびボンディングサービスもご利用可能
安定したスパッタリング速度のための高密度で均一な微細構造

酸化リチウムスパッタリングターゲットの仕様オプション

純度グレード：3N (99.9%) 標準、4N 以上もご要望に応じて対応可能
ターゲット形状：円形、長方形、またはカスタム形状
寸法： 標準直径 1 インチ～8 インチ、厚さ 3～10 mm、カスタマイズ可能
ボンディング
： バックプレート（Cu、Mo）へのインジウムまたはエポキシによるボンディング

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オプション

酸化リチウムスパッタリングターゲットの用途

固体リチウム電池
： リチウムリッチ固体電解質（LLZO、LISICON タイプ、LiPON など）の薄膜堆積
エレクトロクロミックデバイス：スマートウィンドウ用途のリチウムインターカレーション酸化膜
透明導電性酸化物：電子特性を変更するための ZnO や ITO などの材料のドーピング剤
機能性薄膜：高度な電子デバイス用のリチウム含有酸化物層の形成に使用

よくある質問

Q1：酸化リチウムスパッタリングターゲットは、主にどのような種類の薄膜に使用されますか？
A1: これらのスパッタリングターゲットは主に、リチウム酸化物機能性薄膜の作製に使用されます。リチウム系機能性材料、固体電解質、関連酸化物薄膜などの研究分野で一般的に見られます。

Q2: 薄膜成膜時のリチウム酸化物材料の特性は？
A2: この材料は典型的な酸化物特性を示し、スパッタリング成膜時に均一な組成と安定した構造を持つ機能性薄膜の形成を助けます。

Q3: この酸化リチウムスパッタリングターゲットに適したスパッタリングプロセスは？
A3: 酸化リチウムスパッタリングターゲットは、高周波スパッタリングなどのPVDプロセスに一般的に適しており、研究段階やパイロットスケールでの薄膜作製ニーズを満たします。

Q4: 酸化リチウムスパッタリングターゲットの使用・保管時の注意点は？
A4: ターゲットは乾燥した密閉環境で設置・保管し、空気や湿気との接触を最小限に抑えることを推奨します。これによりスパッタリングプロセスの安定性と薄膜品質が確保されます。全Li₂Oスパッタリングターゲットには分析証明書（COA）および化学物質安全データシート（MSDS）が同梱されます。XRD、SEM、EDXレポートはご要望に応じて提供可能です。