酸化ランタン・アルミニウム

アルミン酸ランタンスパッタリングターゲット 概要

ランタンアルミネート (LaAlO3)スパッタリングターゲットは、化学的および熱的安定性に優れた薄膜形成プロセス用に設計された高性能材料です。最高99.9%の純度で、均一な膜形成、強固な密着性、極めて低い不純物含有量を保証します。酸化ランタンアルミ材料は、様々なハイテク分野、特に高温かつ過酷な環境下での薄膜形成に広く使用されています。

弊社は高純度ランタンアルミネートスパッタリングターゲットを、円形や長方形など様々な形状やサイズで提供しており、お客様の特定の要件に応じてカスタマイズすることも可能です。また、包括的なアフターサービスも提供しております。 ご連絡ください。.

製品ハイライト

純度：99.9
高密度で均一な薄膜成膜が可能
サイズと形状のカスタマイズが可能
ターゲットボンディングサービスあり

酸化ランタンアルミニウムスパッタリングターゲットの用途

半導体優れた誘電率を持つため、誘電体薄膜材料、特にマイクロエレクトロニクスやMEMSプロセスに適しています。
フラットパネルディスプレイ：LCDやOLEDディスプレイの反射層や電極層として使用され、ディスプレイ性能を向上させる。
光学コーティング：レンズ、リフレクター、その他の光学部品への薄膜蒸着に使用され、優れた光学性能を提供する。
エネルギー: 固体酸化物燃料電池（SOFC）や高温スーパーキャパシタなど、エネルギー分野における重要な用途。
高温用途：LaAlO3は高誘電率材料として、高温環境における触媒、センサー、高温絶縁層などに広く使用できる。

レポート

分析証明書(COA)、製品安全データシート(MSDS)、その他関連する報告書をバッチ毎に提供します。また、品質保証を強化するため、第三者試験にも対応しています。

弊社を選ぶ理由

信頼できる高純度アルミン酸ランタンスパッタリングターゲットサプライヤーとして、当社は優れた均一性、高密度、正確な組成、信頼性の高い供給を提供し、専門的な技術サポートにより、薄膜および電子アプリケーションにおける最適な性能を保証します。