様々な物理的蒸着プロセスに適した可逆的な金属-絶縁体相変化機能性ターゲットです。光学変調や熱管理に広く応用される、高密度で安定したスマート機能性薄膜の作製に使用できます。
各種サイズ、結晶形態、密度制御のVO2スパッタリングターゲットを提供しています。カスタマイズソリューションや技術サポート
についてはお問い合わせください。
高密度ターゲット
優れたスパッタリング安定性
制御可能な薄膜相変化特性
スマート熱制御薄膜作製に適応
サイズ・結晶形状のカスタマイズ可能
信頼性の高いバッチ間均一性
スマート熱制御薄膜作製:
周囲温度変化に応じて赤外線透過率を調整するスマート温度制御薄膜の成膜が可能。省エネルギーと熱管理機能を実現。
光変調デバイスコーティング:
スパッタリングで形成されたVO2薄膜は、
光変調器、スマートウィンドウ、赤外線デバイスに使用でき、デバイスの応答速度と安定性を向上させます。
機能性電子薄膜:
VO2ターゲットは、センサーや電子デバイス用の機能性電子薄膜の作製に適しており、一貫した信頼性の高い薄膜性能を保証します。
研究・プロセス開発:
VO₂薄膜や相変化機能性材料の研究においてターゲットが広く使用され、実験室規模からパイロットスケールまでの応用において安定した材料基盤を提供します。
質問Q1:酸化バナジウムターゲットに適したスパッタリングプロセスは?
A1:マグネトロンスパッタリング、DCスパッタリング、RFスパッタリングに使用可能で、薄膜の連続性と構造均一性を確保します。
Q2: ターゲットの密度は薄膜性能にどう影響しますか?
A2: 高密度ターゲットは、良好な密着性と緻密な構造を持つ機能性薄膜の形成を助け、相変化特性の安定性を向上させます。
Q3: ターゲットは長期連続スパッタリングに適していますか?
A3: 適切な冷却とプロセス制御により、連続または長期の成膜要求を満たすことが可能です。
Q4: VO2ターゲット使用時の注意事項は?
A4: ターゲットの清潔・乾燥状態を保つこと、操作時の衝撃や粉塵吸引を避けること、装置推奨パラメータに基づくスパッタリング温度・雰囲気の制御が推奨されます。
各ロットに付属:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
物質安全データシート(MSDS)
サイズ検査報告書
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能
当社は長年
機能性酸化バナジウムスパッタリングターゲットの調製と応用支援に注力し、高密度で安定したVO2スパッタリングターゲットを提供するとともに、お客様のプロセス要件に合わせた専門的なアドバイスを提供し、高品質なスマート薄膜および機能性デバイスの製造を保証します。
分子式VO₂
分子量:69.88g/mol
外観黒色または茶色の金属光沢
密度4.37 g/cm³
融点:1930
結晶構造:単斜晶系
内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。