| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 280800ST001 | NiO | 99.9% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST002 | NiO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST003 | NiO | 99.9% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST004 | NiO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST005 | NiO | 99.9% | Ø 75 mm x 4 mm | Inquire |
| 280800ST006 | NiO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 5 mm | Inquire |
| 280800ST007 | NiO | 99.95% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 280800ST008 | NiO | 99.9% | 127 mm x 101 mm x 7mm | Inquire |
| 280800ST009 | NiO | 99.9% | 200 mm x 75 mm x 3.2mm | Inquire |
酸化ニッケル 機能性薄膜や電子セラミック薄膜の精密成膜に適した高純度酸化ニッケルターゲットです。
化学的に安定で高密度のNiOスパッタリングターゲットを提供します。装置やプロセスの要求に応じて、特注サイズや仕様にも対応可能です。お問い合わせ お問い合わせお問い合わせ 技術 お問い合わせください。
高純度酸化ニッケル
優れたターゲット密度
均一で安定した組成
均一な成膜
マグネトロンスパッタリングに最適
マルチスペックカスタマイズ対応
対応 ボンディングバックプレーンカスタマイズ対応
電子セラミック薄膜：電気的、磁気的、光学的特性を制御するための電子セラミック材料の成膜に使用できます。
機能性薄膜の作成：導電膜、光電子膜、保護膜などの機能性薄膜層の作製に適している。
触媒薄膜：触媒反応効率や選択性を向上させるための触媒デバイスや薄膜触媒層の成膜に使用できる。
研究およびプロセス開発：研究機関が薄膜の構造制御、ターゲットパラメーターの最適化、新しいプロセス実験を行うのに適している。
Q1: NiOスパッタリングターゲットはどのようなスパッタリング装置に適していますか？
A1：マグネトロンスパッタ装置で使用できますが、具体的な要件は装置仕様で確認する必要があります。
Q2: ターゲットの組成は均一で安定していますか？
A2: はい、ターゲット組成はターゲットブロック全体で一定であり、膜の均一性を確保しています。
Q3: 特注サイズや研究仕様にも対応していますか？
A3: はい、実験や生産のニーズに応じて、様々なサイズや仕様を提供することができます。
Q4: スパッタ膜の組成は制御可能ですか？
A4: 適切なプロセスパラメーターの下で、膜組成はターゲットと良好な整合性を保ちます。
各バッチには以下が添付されています：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
製品安全データシート（MSDS）
サイズ検査報告書
ご要望に応じて、第三者機関による検査報告書をご提供いたします。
私たちは研究開発高純度NiOスパッタリングターゲットの研究開発と製造を専門とし、ターゲット密度、組成の均一性、プロセス適応性を重視し、機能性薄膜、電子セラミックス、科学研究用途に信頼性の高い材料サポートを提供しています。
分子式NiO
分子量： 74.69 g/mol
外観滑らかな表面を持つ黒色または緑色の金属ターゲット
密度約6.67 g/cm³
融点約1,915°C
沸点約2,700°C
結晶構造岩塩構造
包装：真空シールされた袋と、汚染や湿気を防ぐための箱詰め。
外箱梱包：サイズと重量に応じて選択されたカートンまたは木枠。
