酸化ニオブ

酸化ニオブ回転ターゲット概要酸化

ニオブ回転
ターゲットは、酸化ニオブセラミックスを基にした回転式スパッタリングターゲットです。高い安定性、優れた光学特性、高度に制御可能な化学量論比を有し、透明薄膜、電気機能性薄膜、高耐食性コーティングの成膜に広く用いられます。主に透明導電膜、光学干渉膜、バリア層、機能性保護膜の作製に活用されます。

当社は各種組成（NbO、NbO₂、Nb₂O₅等）の酸化ニオブ回転ターゲットを製造可能で、直径・長さ・肉厚のカスタマイズに対応します。これらのターゲットは高い均一性、高密度、優れた機械的強度を特徴とします。 高熱伝導性バックプレートとの組み合わせが可能で、拡散接合または高真空接合プロセスを採用しているため、中～長寿命のスピニングスパッタリングシステムに適しています。NbOxロータリーターゲットの化学組成についてはお問い合わせください
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製品の特徴

安定した酸化物化学量論
高密度かつ優れた機械的強度
主流の回転マグネトロンスパッタリング装置との互換性
複数のNbOx相のカスタマイズ対応
長寿命かつ均一なエッチング性能
高バックプレート強度と優れた放熱性
ターゲットボンディングサービス
低粒子率、高要求薄膜に適応

ニオブ酸化物回転ターゲットの用途

透明光学薄膜：安定かつ高屈折率の光学干渉層形成に利用。
電子デバイス用バリア膜：部品構造における拡散防止材または電気的モジュレーション材料として使用。
装飾・保護コーティング：耐摩耗性、耐食性、高密着性フィルムの形成に使用。
太陽
電池・光電産業用薄膜：光学モジュレーション、フィルター膜、機能層構造の作製に使用。

よくある質問

Q1: NbOxチューブターゲットの標準包装方法は？
A1: 各チューブターゲットは多層耐衝撃包装で梱包され、クリーンバッグに密封後、専用強化ボックスに収納されます。これにより輸送中の構造変形や表面汚染を防止します。

Q2: 酸化ニオブ回転ターゲットにはどのような加工技術がありますか？
A2: 精密研削、端面加工、バックプレート溶接、表面研磨、および酸化状態の異なるターゲット向けのカスタマイズ焼結プロセスを提供しています。

Q3: ターゲットの正しい保管方法は？
A3: 酸化状態と表面清浄度を維持するため、乾燥した室温環境で、光と湿気を避けて保管することを推奨します。

Q4: NbOxターゲットはどの程度の純度を達成できますか？
A4: 純度≥99.9%の酸化ニオブ原料を提供可能です。ご要望に応じて、NbO、NbO₂、Nb₂O₅の異なる比率における化学量論的制御レポートも提供します。

報告書

各バッチに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能です。

当社を選ぶ理由

難溶性金属酸化物スパッタリングターゲット及びチューブターゲットの専門メーカー
研究開発から量産までのフルチェーンサービスをサポート
制御可能な配合と安定した構造により、高均一薄膜形成に最適
サイズ・相・バックプレーン構造など柔軟なカスタマイズ対応
充実した試験設備による透明性・トレーサビリティを保証
豊富な国際配送実績と安全確実な包装
専門技術チームによるスパッタリングパラメータ提案・材料選定支援